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「(株)日本レーザー 登録製品一覧」
(株)日本レーザー 登録製品一覧
- 対象件数26件
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ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
多軸自由度のステージをコンパクトに構成可能
軌跡コントロール。ソフトウェア上で2つの仮想回転中心を設定可能
低価格&高剛性・耐荷重 -
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Newport社 電動ステージ
Newport社は、研究、ライフ&ヘルスサイエンス、航空宇宙&防衛、工業生産、半導体、マイクロエレクトロニクスなどの分野に向けた先進技術製品とソリューションにおいて、世界的に認められているリーダーカンパニーです。
モーションコントロールの分野で数十年の実績をもち、お客様それぞれのニーズに合った最適なソリューションを提供する資質と能力の両方を備えています。 -
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SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
ラボ用の卓上LIBSスキャンシステム
・特別な前処理なしで多元素の高速測定
・カメラ内蔵で実像と組成マップの重ね合わせ
・高い方位分解能 -
SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
ファイバー型のLIBS(レーザー誘起ブレークダウン分光)システム
・全ファイバーデリバリ型なので組み込みに最適
・組み込みをサポートするI/O、ソフトウェア完備
・インライン・オンサイト・in situでの多元素定量分析
・高速・高繰返し測定
・僅か数ミリ秒で多元素の定量分析 -
静電式液材塗布/描画装置“Q-jetシリーズ”
•高粘度材対応 ~10,000cps
•極微量吐出 100フェムト・リットル以下
•多様な吐出モード
•吐出状況の観察機能
•マルチ・ノズルにも対応 -
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS
乾式粒度分布測定のパイオニア シンパテック社
シンパテック社は、1984年クラウスタール工科大学よりスピンオフした粒度分布装置専門メーカーです。乾式粒度分布装置のパイオニアとして知られ、レーザー回折式HELOS&RODOSは、幅広い業界でご愛用いただいております。
従来の乾式分散による粒度分布測定は、分散技術が不十分であった為、実用に耐える ものではなく、現在でも乾式は精度が悪いという声を多く聞きますが、シンパテック社は、その常識を破り正確な測定が可能な装置を提供しています。 -
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈オートフォーカス装置〉
このセクションではオートフォーカス装置(自動焦点装置)におけるピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈計量学〉
このセクションでは計量・計測におけるピエゾアプリケーションへの推奨システムをご紹介します。Piezosystem jena製品は様々な重量のコンポーネントのナノポジショニングに最適です。
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈ビームシャッター〉
このセクションではビームシャッターにおけるピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。Piezosystem jena製品は光ビームやX線及びシンクロトロンアプリケーションで使用できます。
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈顕微鏡アプリケーション向け製品〉
このセクションでは顕微鏡関連のピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。応用例は、サンプルの位置決め、走査型AFM、ラマン、SNOM、電子ビーム、マイクロレンズ/マイクロ対物レンズの位置決め等です。
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈顕微鏡検査〉(採用例2)
このセクションでは顕微鏡関連のピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。応用例は、サンプルの位置決め、走査型AFM、ラマン、SNOM、電子ビーム、マイクロレンズ/マイクロ対物レンズの位置決め等です。
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈顕微鏡検査〉(採用例1)
このセクションでは顕微鏡関連のピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。応用例は、サンプルの位置決め、走査型AFM、ラマン、SNOM、電子ビーム、マイクロレンズ/マイクロ対物レンズの位置決め等です。
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈半導体分野〉
このセクションでは半導体分野におけるピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。Piezosystem jena製品はマスクアライメント、リソグラフィ、ナノメトロロジー、ウエハ検査、ウエハ位置決めに使用できます。
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