プリズム

製品情報

製品詳細

（株）日本レーザー

SECOPTA社 LIBSシステム（インライン向け）

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測定箇所の成分組成を高速定量分析

ファイバー型のLIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光）システム

・全ファイバーデリバリ型なので組み込みに最適
・組み込みをサポートするI/O、ソフトウェア完備
・インライン・オンサイト・in situでの多元素定量分析
・高速・高繰返し測定
・僅か数ミリ秒で多元素の定量分析

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（株）日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。　03-5285-0861

LIBSシステム概要
SECOPTA社の「fiberLIBS inline」 LIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光）システムは、全ファイバーデリバリ型のLIBS分光計です。
LIBS用のパルスレーザー照射、およびプラズマ発光の受光の全ては、ファイバー接続タイプの小型測定ヘッドを介して行えるので、既存システム、既設ラインへの組み込みが容易です。
ソフトウェアについては、アプリケーションに応じて様々な分類手法・定量分析を提供。さらに、インライン・オンライン組み込みを見据えて、PLCとの通信、データ処理・転送、カスタムGUIなどのユーザー要求に対してもサポートしています。

主な特長
● フレキシブルなファイバー測定ヘッド
  • 小型ヘッドなので設置の自由度大 
  • 既設ラインへの組み込み／据え付けも簡単 
  • 測定ヘッド先端の保護窓は簡単に交換可能 
● オンライン測定用の充実性能
  • 100Hz - 20kHzの高繰返し計測
  • 高速分析（数ミリ秒）
  • TCP/IP経由のデータ転送およびリモート制御 
  • 19inchラックサイズの制御ユニット
● 洗練されたケモメトリクス（計量化学）
  • 様々なケモメトリクス手法に基づくデータ解析・定量分析  自動分析のためのアルゴリズム構築

主な応用例
オンライン・オンサイト・in situにおいて、成分組成の同定・定量分析が数ミリ秒で行えます。
  • アルミニウム合金や鉄鋼のオンライン成分分析 
  • プロセスモニタリング（例：アブレーション工程のモニタリング） 
  • リサイクル工場でのオンラインスクラップ選別
  • PMI試験（Positive Material Identification）
  • PAMI試験（Positive Alloy Material Identification） 

主な仕様
解析手法 LIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光法）
パルスエネルギー 3 mJ
繰り返し周波数 100Hz - 20 kHz
分光器仕様 波長範囲：190 ～ 1000 nm
分解能： 0.05 ～ 1 nm
（アプリケーションによります）
レーザー伝送方式 ファイバー伝送式
ワーキングディスタンス 75mm, 100mm, 150mm, 200mm

◆日本レーザーの製品ラインナップ
LIBS計測（レーザー誘起ブレークダウン分光）システム
LIBSシステム（インライン向け）
ファイバー型のLIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光）システム
測定箇所の成分組成を高速定量分析
・全ファイバーデリバリ型なので組み込みに最適
・組み込みをサポートするI/O、ソフトウェア完備
・インライン・オンサイト・in situでの多元素定量分析
・高速・高繰返し測定
・僅か数ミリ秒で多元素の定量分析
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LIBSシステム（ラボ用卓上タイプ）
ラボ用の卓上LIBSスキャンシステム
2次元・3次元の組成マッピングが可能
・特別な前処理なしで多元素の高速測定
・カメラ内蔵で実像と組成マップの重ね合わせ
・高い方位分解能
・ビギナーからエキスパートまで対応したソフトウェア
・レーザー安全性に配慮した設計
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LIBSシステム（超高速インライン向け）
完全インライン向けLIBSシステム
20kHzの超高繰返し測定
（カスタムで100kHzまで可）
・IP63クラスの防塵ハウジング
・ダストから光学系を保護するパージエア機構
・高信頼性のMOPAレーザー搭載
・高速データ処理・解析
・TCP/IP経由のデータ転送およびリモート制御
・高速フォーカス追従（MopaLIBS_line & scan）
＞詳細はこちら

【パターン・ジェネレータ】 （レーザー描画装置・レーザー加工装置）
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】
【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー（IMPACTシリーズ）
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式　粒度分布測定（乾式・湿式） HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 ／ 顕微鏡検査（採用例1） ／ 顕微鏡検査（採用例2）
顕微鏡アプリケーション向け製品 ／ ビームシャッター ／ 計量学 ／ オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ（自動直進ステージ）
電動回転ステージ（自動回転ステージ）
電動垂直ステージ（自動垂直ステージ）
ナノポジショニング・リニアステージ（ピエゾ駆動直進ステージ）
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム