製品詳細

(株)日本レーザー

レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

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その他

広範囲な試料粒度に適応

乾式粒度分布測定のパイオニア シンパテック社
シンパテック社は、1984年クラウスタール工科大学よりスピンオフした粒度分布装置専門メーカーです。乾式粒度分布装置のパイオニアとして知られ、レーザー回折式HELOS&RODOSは、幅広い業界でご愛用いただいております。
従来の乾式分散による粒度分布測定は、分散技術が不十分であった為、実用に耐える ものではなく、現在でも乾式は精度が悪いという声を多く聞きますが、シンパテック社は、その常識を破り正確な測定が可能な装置を提供しています。

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(株)日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田2-14-1

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861

主な機能と仕様
Sympatec社製 HELOS&RODOS(へロス・アンド・ロドス)は高分解能・高再現性を実現したレーザー回折式粒度分布測定装置です。多岐の分野(医薬・磁性 材料・電池材料・金属・化学・塗料・食品等)において使用されており、特に乾式測定では日本国内はも とより世界各国のお客様から高い評価を受けています。
測定範囲は0.1μm~3,500μmの 広範囲にわたり、粉末・エマルジョン・サスペンション・スプレーミスト等、多種多様の試料に対応し、最も汎用性の 高い粒度分布測定システムです。

◆日本レーザーの製品ラインナップ
【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【パターン・ジェネレータ】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+”
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000”
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400”
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101”
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 顕微鏡検査(採用例1) 顕微鏡検査(採用例2)
顕微鏡アプリケーション向け製品 ビームシャッター 計量学 オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム