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（株）日本レーザー

静電式液材塗布/描画装置“Q-jetシリーズ”

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静電吸引力で液体材料を吐出。
高粘度材の吐出や極微量吐出を実現

•高粘度材対応 ～10,000cps
•極微量吐出 100フェムト・リットル以下
•多様な吐出モード
•吐出状況の観察機能
•マルチ・ノズルにも対応

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（株）日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

概要
　
静電吸引力で液体材料を吐出。
高粘度材の吐出や極微量吐出を実現
静電吸引力により液体材料を吐出させる原理に基づいた、液材の塗布、液剤による描画技術。従来のインクジェットやディスペンサでは対応が難しい高粘度材（～10,000cps）の吐出や、極微量吐出（100フェムト・リットル以下）を実現しました。
極性を有する溶媒で構成される液材であれば吐出可能。静電吸引力により微小なノズルから液材が自己先鋭化しながら吐出されるので、連続的な極細ジェットを形成できます。ポジティブ・トーンのフォトレジストや銀ナノペースト、熱硬化性樹脂等を用いた、微小領域への塗布や、20μm以下の細線による描画が可能です。

特長
● 多様な吐出モード―単流ジェット、ナノ・スプレー、ニューマティック（空圧）吐出
単流ジェットだけでなく、使用する液材や基材、吐出条件によってはスプレー吐出―ナノ・スプレー・モード―も可能。また、Q-jet独自の特殊なノズルは、従来のディスペンサのノズルよりも液切れに優れるので、空圧だけによる吐出でも高精細塗布を可能にしています。
単流ジェットによる描画
ナノ・スプレー・モードによるフォトレジストの段差部への塗布 ― 段差の肩の部分でも液ぎれせずに塗布可能
● 吐出状況の観察機能を用意（シングル・ノズル・タイプのみ）
ノズルから液材が吐出される状況をノズルの鉛直上方（標準）および側面（オプション）からリアル・タイムで観察できるので、吐出条件の調整が容易です。また、基材表面で液材がどのように濡れ広がるかの観察も可能ですので、液材の開発にもご活用頂けます。
● マルチ・ノズルにも対応
ノズルをマルチ化することにより大面積への全面塗布にも対応可能です。
マルチ・ノズル 　マルチ・ノズル・ヘッド（QHM70-AL）

◆日本レーザーの製品ラインナップ
インプリント装置
静電式液材塗布/描画装置
“Q-jetシリーズ”
静電吸引力で液体材料を吐出。高粘度材の吐出や極微量吐出を実現
・高粘度材対応 ~10,000cps
・極微量吐出 100フェムト・リットル以下
・多様な吐出モード
・吐出状況の観察機能
・マルチ・ノズルにも対応
＞詳細はこちら
＞ その他、用途に合わせた製品を取り揃えております。

【パルスレーザー】
高繰返しLD励起パルス固体レーザー（IMPACTシリーズ）
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定（乾式・湿式） HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 ／ 顕微鏡検査（採用例1） ／ 顕微鏡検査（採用例2）
顕微鏡アプリケーション向け製品 ／ ビームシャッター ／ 計量学 ／ オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム（インライン向け）
SECOPTA社 LIBSシステム（ラボ用卓上タイプ）
SECOPTA社 LIBSシステム（超高速インライン向け）

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ（自動直進ステージ）
電動回転ステージ（自動回転ステージ）
電動垂直ステージ（自動垂直ステージ）
ナノポジショニング・リニアステージ（ピエゾ駆動直進ステージ）
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム

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