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製品詳細

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（株）日本レーザー

ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム

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Newport社ヘキサポッド

多軸自由度のステージをコンパクトに構成可能
軌跡コントロール。ソフトウェア上で2つの仮想回転中心を設定可能
低価格&高剛性・耐荷重

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（株）日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。　03-5285-0861

	独立6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と精度を提供。
	6軸を個々にコントロールする統合型ポジショナ軽量&コンパクトでありながら高剛性（特にZ軸）を実現モーション誤差の蓄積なし可動ケーブルなし Right Path™ 軌道制御ソフトウェア設定の2つの仮想回転中心中心耐荷重： 5, 6, 20, 450 kg 真空（10^-6 hPa）バージョンを用意

◆概要

ヘキサポッドは、6つの自由度（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）を備えたパラレルキネマティックモーション装置です。独立した軸を最大6つ利用しているため、高い耐荷重と精度を必要とする複雑なモーションのアプリケーションに適しています。
ヘキサポッドは複雑で高価であると一般に考えられていますが、Newport社のヘキサポッドは低価格であるだけではなく、非常に使いやすく再構成が容易な製品となっています。
高性能なアクチュエータ6台を使用し、従来のものよりも遙かに高い剛性を持つ自在継手を考案したことで
Newport社のヘキサポッドは他社の同サイズのヘキサポッドと比べて5倍以上の剛性と2倍以上の耐荷重を備えています。
また、専用のファームウェアで複雑な動作のプログラミングを簡素化できます。

◆活用事例

光学部品や人工衛星の組み立てや試験、天文学、バイオテクノロジー、X線回折、微細加工、微細操作

◆主な仕様

詳しくは製品ページをご覧ください。（日本レーザーWEBサイトに移動します）

◆日本レーザーの製品ラインナップ

Newport社電動ステージ

電動回転ステージ（自動回転ステージ）

1000度/秒の高速回転。大口径＆大荷重
精密ガラススケールエンコーダによる高い再現性、最小移動量、高い精度など

直接駆動の直読式高速回転型から、多用途・低価格タイプまで、100モデル以上を展開

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電動垂直ステージ（自動垂直ステージ）

滑らかで精密な垂直移動、高感度、優れた再現性

高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ

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ナノポジショニング・リニアステージ（ピエゾ駆動直進ステージ）

優れた位置決め分解能、軸対荷重、長期の位置決め安定性

ナノメートル分解能の圧電素子モータベース・直進ステージ

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ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム

多軸自由度のステージをコンパクトに構成可能
軌跡コントロール。ソフトウェア上で2つの仮想回転中心を設定可能

独立6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。
複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と精度を提供。

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【パターン・ジェネレータ】（レーザー描画装置・レーザー加工装置）
	高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】マスクレス・リソグラフィ装置フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】 R&D用マスクレス・リソグラフィ装置最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】
【パルスレーザー】
	パルスファイバーレーザーredENERGY G4 高繰返しLD励起パルス固体レーザー（IMPACTシリーズ）
【インプリント】
	UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200 熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
	レーザー回折式　粒度分布測定（乾式・湿式） HELOS&RODOS