製品詳細

(株)日本レーザー

高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400”

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その他

マスクレスをお考えの生産ラインに最適

•描画速度:1,050mm2/分@1μm解像度, 10,000mm2/分@4μm解像度
•最少描画サイズ0.75μm

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(株)日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田2-14-1

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861

概要
縮小投影式の描画方式を採用し、究極の描画速度を実現。多品種少量生産におけるマスクレスのニーズに対応します。併せてDWLシリーズと同様にサブ・ミクロンに至る高精細な描画性能を誇る、真の“高速/高精細”なレーザー直接描画装置の登場です。

主な機能とオプション
  • 最大基板サイズ:200×200mm2(VPG200), 400×400mm2(VPG400)
  • 最小描画サイズ:0.75μm(オプション)
  • 最小アドレス・グリッド:12.5nm@0.75μm(オプション)
  • 描画スピード(VPG200): 1,050mm2@1μm, 10,000mm2@4μm
  • 描画スピード(VPG400): 1,200mm2@1μm, 13,500mm2@4μm
  • レーザー源:DPSS
  • MOEMS(光MEMS)を使用した光学系統
  • 計測、アライメント機能
  • エッジ検出機能
  • 光学式オートフォーカス(オプション)
  • 自動基板ローディング・システム(オプション)


◆日本レーザーの製品ラインナップ
パターン・ジェネレータ
生産・開発用途
マスクレス・リソグラフィ装置
フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000”
高速で高精度なステージ・システム、
光学系、制御系
R&Dから生産用途までをカバー
•最少描画サイズ0.5μm
•自動基板搬送機構も搭載可能
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研究・開発用途
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置
最上位モデル“DWL66+”
最少描画サイズ0.6μm。高精細な描画性能
多様な用途に対応可能
専門用途のグレイ・スケール露光機能の搭載
研究開発用途でフォトマスクの試作や直描を行うのに最適。
低価格かつ高精度なレーザー・リソグラフィシステム。
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研究用途
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置
“μPG501/μPG101”
卓上型で簡単な操作性
お求めやすい価格ながら
サブ・ミクロンの解像度を実現
μPG501
 ・高精度&ハイスループット
 ・描画速度:50mm2/分
 ・最少描画サイズ1μm
μPG101
 ・最もお求めやすい価格帯
 ・最少描画サイズ0.9μm
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ラインナップ間の性能比較
用途 R&D用 生産
モデル μPG101 μPG501 DWL66+ DWL2000 DWL4000 VPG200 VPG400
描画エリア(mm□) 90 125 200 200 400 200 400
最少描画サイズ(μm) 0.9 1 0.6 0.5 0.75
描画速度@1μm(mm2/分) 5 50 39 170 1050 1200
グレー・スケール露光 トライアル用途 専門用途 未対応

パターン・ジェネレータ 用途例はこちら


【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 顕微鏡検査(採用例1) 顕微鏡検査(採用例2)
顕微鏡アプリケーション向け製品 ビームシャッター 計量学 オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシス

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