製品詳細
(株)日本レーザー
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400”
メーカーの製品情報サイトはこちら
その他
マスクレスをお考えの生産ラインに最適
•描画速度:1,050mm2/分@1μm解像度, 10,000mm2/分@4μm解像度
•最少描画サイズ0.75μm
この企業の登録製品はこちら
製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861 |
|
縮小投影式の描画方式を採用し、究極の描画速度を実現。多品種少量生産におけるマスクレスのニーズに対応します。併せてDWLシリーズと同様にサブ・ミクロンに至る高精細な描画性能を誇る、真の“高速/高精細”なレーザー直接描画装置の登場です。 |
|
- 最大基板サイズ:200×200mm2(VPG200), 400×400mm2(VPG400)
- 最小描画サイズ:0.75μm(オプション)
- 最小アドレス・グリッド:12.5nm@0.75μm(オプション)
- 描画スピード(VPG200): 1,050mm2@1μm, 10,000mm2@4μm
- 描画スピード(VPG400): 1,200mm2@1μm, 13,500mm2@4μm
- レーザー源:DPSS
- MOEMS(光MEMS)を使用した光学系統
- 計測、アライメント機能
- エッジ検出機能
- 光学式オートフォーカス(オプション)
- 自動基板ローディング・システム(オプション)
|