栗田製作所と、名古屋大学の共同開発で誕生した、水中プラズマ発生技術は、パルス電源技術を用い、電極周囲を高電圧パルスによりジュール過熱し気泡を発生させ、気泡内で絶縁破壊を起しプラズマを連続的に発生させる方法です。マイクロ波を使う技術に比べ、簡素で安価な装置構成が可能です。また液中プラズマの効果で、滅菌・殺菌や、金属ナノ粒子の生成も可能です。

高岳の光ファイバ温度計は、光ファイバを採用した光学現象によるセンシングシステムです。従来の温度センサでは困難であった高電圧部や電磁界中での温度測定が行えます。　　高電圧充電部の温度測定および監視・制御　高周波・マイクロ波加熱装置の温度制御および測定　アンテナの温度測定　プラズマ近傍の温度測定

真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置

水質汚濁防止法の排水基準値をクリアー。油分濃度を5ppm以下に処理。　　ISO14001の取得に役立ちます　産廃棄経費節減100万円以上　　センサーとタイマーでドレンを確実に排出。

真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置

プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現！　開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応　イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用　　ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現！　ホトリソ工程のスキップを実現　低コスト大量生産が可能　24時間フル生産　スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能　マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ

簡単設定　サンプル周期、測定レンジを設定したら計測スタート　　名刺サイズ　W50×D75×H20[mm]　　バッテリ駆動　リチウムイオン電池内蔵（充電式）　5[msec]サンプルで24時間以上連続動作

「薄膜形成の試作・開発から量産」まで幅広くお客様のニーズにお応えします。　薄膜形成の受託加工（パターン形成を含む）　開発・試作のご協力から中小ロット処理を受注いたします。　開発・試作の段階では多種多様の成膜・表面処理のプランがあっても、社内で実施するには様々な制約があるお客様に対応いたします。　　真空蒸着・高周波式イオンプレーティングにより、多種多様な成膜に対応しております。　多くの経験と高い技術力をもとに、開発試作の進展にご協力・寄与できると確信しております。　現在11台の装置を保有していますので、設備

簡単設定　サンプル周期、測定レンジを設定したら計測スタート　　名刺サイズ　W50×D75×H20[mm]　　バッテリ駆動　リチウムイオン電池内蔵（充電式）　5[msec]サンプルで24時間以上連続動作

米国ナノグリーンテクノロジー社が開発した画期的特許の洗浄工程はクラスター化した機能水を洗浄装置に送り、そのクラスターが微粒子を包み込んで基盤への再付着を防止するというもので、バッチ方式、枚葉方式とも45nmノード以降の次世代デバイス洗浄の効率化と歩溜まり向上に大きく貢献します。　　微細パターンの損傷と崩壊を引き起こさないパーティクル洗浄が可能　金属イオンの増加がない　酸化膜がエッチングされない　表面粗さの改善（表面を傷つけない）　化学薬品を使用しない常温処理で徹底的なランニングコスト削減　廃液処理不要のク

真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置

ワイヤーソー廃スラリー処理に最適！IHI製スラリーリサイクル装置　　IHI製スラリー仕様遠心分離機による再生運転の安定化を実現！　砥粒回収率：80％以上　　　インゴッド加工排水の処理・再生に最適！IHI製インゴット外胴切削水回収装置　　外胴切削水を無薬注で濾過し90％以上をリターン可能に！　更に、シリコン切削粉の抽出も実現！　　　シリコン廃液水などの凝集に　無機系凝集剤オイルフロック　　環境に優しい　油分等の除去が可能　1剤で添加・攪拌で効果が発揮できる　凝集汚泥に優れた脱水性

有機EL、太陽電池、包装用　　基板フィルム材料：PEN、その他開発中（A3まで）　成膜装置：MDF製プラズマアシスト有機触媒CVD MD501　バリア性能：水蒸気透過度成績書付き

プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現！　開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応　イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用　　ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現！　ホトリソ工程のスキップを実現　低コスト大量生産が可能　24時間フル生産　スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能　マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ

真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置

セキスイの常圧プラズマが、材料の生産プロセスを革新します。　　インラインでの連続処理可能　真空不要の常圧プロセス　　低ランニングコスト　高価な希ガス（He、Ar）不要のマルチガス対応　　豊富な電極　2100mmまでの広幅対応可能

「薄膜形成の試作・開発から量産」まで幅広くお客様のニーズにお応えします。　薄膜形成の受託加工（パターン形成を含む）　開発・試作のご協力から中小ロット処理を受注いたします。　開発・試作の段階では多種多様の成膜・表面処理のプランがあっても、社内で実施するには様々な制約があるお客様に対応いたします。　　真空蒸着・高周波式イオンプレーティングにより、多種多様な成膜に対応しております。　多くの経験と高い技術力をもとに、開発試作の進展にご協力・寄与できると確信しております。　現在11台の装置を保有していますので、設備

プラスチック、フィルムのITO及びポリイミドのダイレクトエッチングパターンを高速で実現！　ホトリソ工程のスキップを実現　低コスト大量生産が可能　24時間フル生産　スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能　　マスクパターンを正確に転写してレーザーエッチングパターンを形成　熱の影響なくレーザーで材料の結合を破壊　ワンパルスで薄膜金属（j金、銅）の直接パターンエッチング　　　SiO2、Si3N4を常温から400度で低温から高温で高速成膜ができる！

水質汚濁防止法の排水基準値をクリアー。油分濃度を5ppm以下に処理。　　ISO14001の取得に役立ちます　産廃棄経費節減100万円以上　　センサーとタイマーでドレンを確実に排出。

「薄膜形成の試作・開発から量産」まで幅広くお客様のニーズにお応えします。　薄膜形成の受託加工（パターン形成を含む）　開発・試作のご協力から中小ロット処理を受注いたします。　開発・試作の段階では多種多様の成膜・表面処理のプランがあっても、社内で実施するには様々な制約があるお客様に対応いたします。　　真空蒸着・高周波式イオンプレーティングにより、多種多様な成膜に対応しております。　多くの経験と高い技術力をもとに、開発試作の進展にご協力・寄与できると確信しております。　現在11台の装置を保有していますので、設備