極低真空下にて驚異の高分解能を実現。　水分や油分を含んだ試料でも無処理で高倍観察できます。　高温加熱による動的観察ができます。（1000℃or1300℃）　絶縁物でも無処理で観察できます。　圧縮/引張りの動的観察ができます。　電子銃タイプ（W、LaB6、FE）のフルラインナップ。

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

あらゆる真空システムの制御に最適　　本ピラニー真空計は測定メータと一体化された真空計でコンパクトで、取り扱いが簡単です。　独自な特殊ピラニー球を使用し、安定した信頼ある測定値を指示いたします。　無接点メータリレーを採用し、外部接点出力を内蔵しています。　フィラメント断線信号が内蔵されています。

長時間連続運転OK　高真空タイプ　低騒音　微粉塵を回収しても、目詰まりを起こさない特殊マイクロフィルターを使用。（米国特許製品）　移動、設置が簡単なコンパクトタイプ

極低真空下にて驚異の高分解能を実現。　水分や油分を含んだ試料でも無処理で高倍観察できます。　高温加熱による動的観察ができます。（1000℃or1300℃）　絶縁物でも無処理で観察できます。　圧縮/引張りの動的観察ができます。　電子銃タイプ（W、LaB6、FE）のフルラインナップ。

最大-200℃以下まで冷却可能　真空排気ポンプに併用することで、排気速度を効果的に向上。　残留ガスの水分圧を短時間に激減。　冷凍機部は、メンテナンスフリー・振動フリー・ノンフロン。　冷媒にヘリウムガスを使用。　様々な溶剤もトラップできます。　冷凍機としてもご使用になれます。　高真空排気に優れた効果を発揮！　世界初開発クライオコイル型パルスチューブ冷凍機搭載

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

微少量から多量吐出まで、フィラー入りも可能なあらゆる材料に対応します。　オートサイクル吐出（自動間欠吐出）内蔵により、ミキシングヘッドのゲル化（硬化）を防止します。　計量システムは、1モーター2ギヤーポンプ方式により、安定した配合比が得られます。　オプション：大型タンク20L～80L・材料真空脱泡・パワーミキサー（強制攪拌方式）他。　エポキシ・シリコン・ウレタン他

最大-200℃以下まで冷却可能　真空排気ポンプに併用することで、排気速度を効果的に向上。　残留ガスの水分圧を短時間に激減。　冷凍機部は、メンテナンスフリー・振動フリー・ノンフロン。　冷媒にヘリウムガスを使用。　様々な溶剤もトラップできます。　冷凍機としてもご使用になれます。　高真空排気に優れた効果を発揮！　世界初開発クライオコイル型パルスチューブ冷凍機搭載

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

耐熱温度130℃～316℃の米国製高機能エポキシ接着剤です。高温でのガス放出が非常に少ない真空用、航空宇宙産業用の製品もあり、セラミック・金属・石英・ガラス・樹脂類の接着及びポッティングに使用します。

運動用・固定用、単動PTFEシールジャケット+スプリング内蔵シール（回転用にはフランジ付きを用意しております）　幅広いアプリケーションで優れたシール性を発揮します（ポンプ、バルブ、油圧シリンダー、ロボット、真空機器、化学装置、水スイベル等）　優れた耐摩耗性　ほとんど全ての流体、薬品、ガスに対して耐性を有します

最大-200℃以下まで冷却可能　真空排気ポンプに併用することで、排気速度を効果的に向上。　残留ガスの水分圧を短時間に激減。　冷凍機部は、メンテナンスフリー・振動フリー・ノンフロン。　冷媒にヘリウムガスを使用。　様々な溶剤もトラップできます。　冷凍機としてもご使用になれます。　高真空排気に優れた効果を発揮！　世界初開発クライオコイル型パルスチューブ冷凍機搭載

温度：極低温～850℃（550F）　圧力：超高真空～1000MPa　適応媒体：幅広い媒体（腐食性媒体および放射性媒体にも適合）　耐蝕性と耐放射線性　シンプルかつ確実なシール性　ガス放出がない　幅広いシールサイズ

あらゆる真空システムの制御に最適　　本ピラニー真空計は測定メータと一体化された真空計でコンパクトで、取り扱いが簡単です。　独自な特殊ピラニー球を使用し、安定した信頼ある測定値を指示いたします。　無接点メータリレーを採用し、外部接点出力を内蔵しています。　フィラメント断線信号が内蔵されています。

ほぼ完全なNiF2で形成でき、最高5ミクロンまで自由に膜厚を調整できます。　各種ステンレス鋼、鉄鋼、アルミニウム素材にも形成できます。　マイクロビッカーズ硬度（Hmv）は500～600あり、皮膜の強度と耐久性があります。　フッ素ガス及びフッ素系の強腐食性ガスに対する耐食性に優れています。　放出ガス量は、常温で1×10^-9Torr・L/s/cm2。150℃、9時間のベーキングで9×10^12Torr・L/s/cm2であり真空領域での使用にも問題ありません。　海水、塩害腐食に対する効果もあります。

微少量から多量吐出まで、フィラー入りも可能なあらゆる材料に対応します。　オートサイクル吐出（自動間欠吐出）内蔵により、ミキシングヘッドのゲル化（硬化）を防止します。　計量システムは、1モーター2ギヤーポンプ方式により、安定した配合比が得られます。　オプション：大型タンク20L～80L・材料真空脱泡・パワーミキサー（強制攪拌方式）他。　エポキシ・シリコン・ウレタン他

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

耐熱/耐寒/酸化安定性　幅広い温度領域　真空中での使用も可　数年間グリース無交換の実績　強酸/アルカリ/ハロゲンなどへの耐薬品性　NFSでH1グレードの高い安全性

極低真空下にて驚異の高分解能を実現。　水分や油分を含んだ試料でも無処理で高倍観察できます。　高温加熱による動的観察ができます。（1000℃or1300℃）　絶縁物でも無処理で観察できます。　圧縮/引張りの動的観察ができます。　電子銃タイプ（W、LaB6、FE）のフルラインナップ。