独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

微小リーク（2×10-10c.c./sec）であること。　コストメリットがあること。　通常の用途から過酷な用途まで幅広くカバーしている事。　超高音（例 540℃）超高圧（例 140Mpa）特殊流体で使用できること。　真空、大流量でも使用できること。　ボディ材も多様であること。（SUS316L、モネル、ハステロイ他）　シール材も多様であること。（テフロン、PEEK、ポリイミド、バイトン他）

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

セラミックス、エンプラ、CFRP　高温絶縁部品、断熱材　搬送用高強度部品　真空部品（洗浄含む）など

フィルター・フィルターアッセンブリィ　工場ユーティリティ/圧力エアー・ガス用ポンプ/真空ポンプ/コンプレッサーなどに・・・・　0.01μmの水分・油分・固体粒子を99.99％除去

特殊仕様のバルブに最適！　特殊仕様のポンプに最適！

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

真空システムのハイサイクル化に最適　超小型設計！！（幅12mm×長さ40.6～63.4mm）　接続部は継手・メネジから選択可能！！　エレメントサイズの選択可能！！

水が見える！変化が見える！　極低真空下（500Pa）にて驚異の高分解能を実現。　水分や油分を含んだ試料でも無処理で高倍観察できます。　高温加熱による動的観察ができます。（1000℃or1300℃）　絶縁物でも無処理で観察できます。　圧縮/引張りの動的観察ができます。　電子銃タイプ（W、LaB6、FE）のフルラインナップ。

オムニシールは、ディスペンサ、定型ポンプなどに最も多く使われています。　ほとんどすべての薬品、幅広い温度、真空・超高圧に対して安定したシール性を備えています。運動用、固定用のいずれにも使用でき、運動用の場合には、低摩擦かつ長寿命です。

医薬・食品・ファインケミカル対応アスペック誕生　大幅な基本構造の見直しにより高品質な空気輸送を実現　モジュール構造の各部はシンプルで分解、洗浄性抜群　吸引力の大きな真空ポンプの採用で大幅なランニングコストの削減（当社比：エジェクター方式に比べ年間20万円～40万円コスト削減）　排出弁口径が180mmと大きく流動性の悪い材料でも安定した輸送が可能　能力1t/h～3t/hの大型機も有ります

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

特殊仕様のバルブに最適！　特殊仕様のポンプに最適！

小型ポンプは並木におまかせください。　電圧24V　最大流量10L/min　最大吸引圧力-95kPa

サイズH48×W96×D133.5ｍｍ　AC85～264Vのフリー電源　DC12～24V電源にも対応

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

耐熱温度130℃～316℃の米国製高機能エポキシ接着剤です。高温でのガス放出が非常に少ない真空用、航空宇宙産業用の製品もあり、セラミック・金属・石英・ガラス・樹脂類の接着及びポッティングに使用します。

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。

コンタミ防止　揺動式でシールレス　均一乾燥、スケーリング防止　全内面ジャケット構造　高効率乾燥　加熱管により、伝熱面積、撹拌効率がアップ　密封排出　吸引排出装置付　良好な洗浄性及び視認性　大型前蓋付　運転管理が容易　運転パラメータがプログラム可能

独自開発の新鋳造設備LAVD（真空脱ガス装置）とCAC（雰囲気調整型鋳造設備）により今までできなかった高難度の鋳造が可能となりました。