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「（株）ティーディーワイ　登録製品一覧」

（株）ティーディーワイ　登録製品一覧

  • 対象件数3件
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  • イオンソース／露光型レーザーアブレーション

    プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現！　開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応　イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用　　ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現！　ホトリソ工程のスキップを実現　低コスト大量生産が可能　24時間フル生産　スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能　マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ

    （株）ティーディーワイ

  • イオンソース／露光型レーザーアブレーション

    プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現！　開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応　イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用　　ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現！　ホトリソ工程のスキップを実現　低コスト大量生産が可能　24時間フル生産　スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能　マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ

    （株）ティーディーワイ

  • 露光レーザーアブレーション／ＨｉＤｅｐ／ＩＣＰ型ＣＶＤ

    プラスチック、フィルムのITO及びポリイミドのダイレクトエッチングパターンを高速で実現！　ホトリソ工程のスキップを実現　低コスト大量生産が可能　24時間フル生産　スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能　　マスクパターンを正確に転写してレーザーエッチングパターンを形成　熱の影響なくレーザーで材料の結合を破壊　ワンパルスで薄膜金属（j金、銅）の直接パターンエッチング　　　SiO2、Si3N4を常温から400度で低温から高温で高速成膜ができる！

    （株）ティーディーワイ