弊社独自技術により、高速立上がり時間を実現しました。また回生機能により高速立下りも実現。±極性に関わらず優れたコストパフォーマンスです。

負荷短絡時、高速で出力を停止させる内部保護機能付の為、高寿命化を実現しました。弊社独自技術により高速立上がり、短パルス幅を実現しました。

高耐久性の真空管採用により、高速立上がり、マイクロパルスが可能になりました。両極性各々のパルス制御が可能です。もちろん片極性での使用も可能です。

高耐久性の真空管を採用している為、立上がり時間、パルス幅ともに従来の電源とは比べられない領域を実現しました。連続、バーストモードと多岐に渡る出力制御が容易に可能です。

高速立上がり、マイクロパルスを実現しました。低電流仕様から大電流仕様まで幅広いラインナップです。現在お使いのバイアス電源のパルス化に最適な電源です。

入力インピーダンス1MΩのオシロスコープに使用する受動プローブです。様々な電圧測定が可能です。据え置き型から缶コーヒーサイズの超小型サイズまで。DC10kV～200kV、更に13.56MHz計測専用モデルも新たにラインナップ

栗田製作所と、名古屋大学の共同開発で誕生した、水中プラズマ発生技術は、パルス電源技術を用い、電極周囲を高電圧パルスによりジュール過熱し気泡を発生させ、気泡内で絶縁破壊を起しプラズマを連続的に発生させる方法です。マイクロ波を使う技術に比べ、簡素で安価な装置構成が可能です。また液中プラズマの効果で、滅菌・殺菌や、金属ナノ粒子の生成も可能です。

栗田製作所と産総研共同開発のPBII&D装置を用いたDLCコーティングです。三次元形状に応じた成膜が可能で、PBII&Dの最大の特徴である自己放電方式により、大型ワークへの処理も容易です。室温からの処理が可能で耐熱が低い材質でも処理が可能です。また殆どの金属や絶縁物でも、処理が可能です。脱クロムを目指したメッキの置き換え皮膜としても有効です。

パルス電源を用いた大気圧アーク放電です。そのためマッチング等の調整が不要です。栗田製作所のパルス電源なので、室温からの処理も可能で、投入電力を増やすことで最大400℃程度の領域まで可能です。ガス種に依存せず、ガス化できるものであればほとんどの物質をプラズマ化出来ます。従来の電源では1電源1プラズマでしたが、栗田製作所の大気圧プラズマ発生用電源であれば、１台の電源で多チャンネル出力が可能なので、低コストで大量処理が可能です。

栗田製作所と産総研の共同開発により誕生した、新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可能です。ワーク自身がプラズマ発生用アンテナになる為、外部アンテナやイオン源が必要なく簡単にDLC処理が可能になりました。パルス電源を使用しているため非常に低温（50℃～）での処理も実現しました。金属から絶縁物まで幅広い物がこの一台でDLC処理できます。