・顕微鏡用対物レンズマウント
・アプリケーションごとに選べるチップ＆チルト・ミラーマウント
・最大開口1500μmの光シャッター／スリット
・使い易いファイバポジショニングシステム
・マイクロメータスクリュードライブ
・グリッパー

・ピエゾ素子による高速＆高精度ファイバカップリング
・標準 1～9チャンネル
・モジュールのカスケード接続で100以上までチャンネル数を増設可能
・対応ファイバコア径 50～600μm
・内部光学部品無し： 紫外から赤外までカバー

圧電素子（ピエゾ）ステージ、
顕微鏡検査、ナノ位置決めなど
幅広い分野・アプリケーションで使用できる

乾式粒度分布測定のパイオニア シンパテック社
シンパテック社は、1984年クラウスタール工科大学よりスピンオフした粒度分布装置専門メーカーです。乾式粒度分布装置のパイオニアとして知られ、レーザー回折式HELOS&RODOSは、幅広い業界でご愛用いただいております。
従来の乾式分散による粒度分布測定は、分散技術が不十分であった為、実用に耐える ものではなく、現在でも乾式は精度が悪いという声を多く聞きますが、シンパテック社は、その常識を破り正確な測定が可能な装置を提供しています。

•高粘度材対応 ～10,000cps
•極微量吐出 100フェムト・リットル以下
•多様な吐出モード
•吐出状況の観察機能
•マルチ・ノズルにも対応

MOPA（Master oscillator power amplifier）方式採用
工業用途に最適な高い柔軟性＆高性能

•繰り返し周波数　CW to 1MHz
•産業用途に最適：　用途に合わせて3タイプから選択
•1062 ± 3 nm
•最大繰返し周波数 1MHz
•パルス幅可変

•描画速度：1,050mm2/分@1μm解像度, 10,000mm2/分@4μm解像度
•最少描画サイズ0.75μm

•最少描画サイズ0.5μm
•自動基板搬送機構も搭載可能

研究開発用途でフォトマスクの試作や直描を行うのに最適。
低価格かつ高精度なレーザー・リソグラフィシステム。

μPG501
　・高精度＆ハイスループット
　・描画速度：50mm2/分
　・最少描画サイズ1μm
μPG101
　・最もお求めやすい価格帯
　・最少描画サイズ0.9μm

高繰返し
短パルス
低メンテナンス設計
密閉ハウジング

最小描画サイズ0.5μmのフォトマスク生産対応モデルから、卓上型でお求めやすい価格のR&D向けモデルまで。ご用途に最適な装置をご提案

・サブ・ミクロンを実現する
　ラスタ・スキャン・ベースの描画方式
・グレー・スケール露光機能
・アライメント機能
・多様なデザイン・データ・フォーマットに対応

最小描画サイズ0.5μmのフォトマスク生産対応モデルから、卓上型でお求めやすい価格のR&D向けモデルまで。ご用途に最適な装置をご提案

・サブ・ミクロンを実現する
　ラスタ・スキャン・ベースの描画方式
・グレー・スケール露光機能
・アライメント機能
・多様なデザイン・データ・フォーマットに対応

・小型卓上装置
・熱インプリントの入門機
・最大350℃高精度ホットプレート搭載
・6インチワーク対応
・強制水冷対応
・簡単操作

・小型卓上装置
・UVインプリントの入門機

・4インチ金型まで対応
・フィルムも転写可能
・平行度調整機構（オプション）

•小型・軽量・シンプルな装置構造
•ハイスループット＆低コスト
•気泡の混入を抑制した精密転写