製品詳細

キヤノンマーケティングジャパン株式会社

ナノインプリント用モールド(ピラーパターン)

超微細加工装置 発光ダイオード MEMS

最大8インチウエハに先端半導体プロセスを使用したパターンの提供

・hp:80nm(L&S)を、±10nm以下の繋ぎ合わせ精度で8インチ全面に再現良くパターンニング可能
・太陽電池やLEDへの応用が期待されているナノインプリント技術に対応
・ナノインプリントに限らず、様々な光学素子にも対応
・半導体プロセスを使用し、量産性の優れた安価なモール ドを製作可能
・半導体プロセスを応用した石英への超微細加工(一部Si等の基板にも対応可)/御希望の側壁角度の制御が可能
【ピラーパターン標準品(2種用意)】
・パターン寸法:P=250nm/P=350nm
・パターン形状:三方配列(P=250nm)/正方配列(P=350nm)
・パターン深さ:250nm±25nm(P=250nm)/P=350nm±35nm(P=350nm)
・パターンエリア:□24mm(共通)
【標準品共通仕様】
・材質:合成石英
・外形寸法:34㎜×32㎜
・基板厚:0.85mm±0.05㎜
・熱膨張率:≦6.5×10-7(15~300℃)

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