米国ナノグリーンテクノロジー社が開発した画期的特許の洗浄工程はクラスター化した機能水を洗浄装置に送り、そのクラスターが微粒子を包み込んで基盤への再付着を防止するというもので、バッチ方式、枚葉方式とも45nmノード以降の次世代デバイス洗浄の効率化と歩溜まり向上に大きく貢献します。　　微細パターンの損傷と崩壊を引き起こさないパーティクル洗浄が可能　金属イオンの増加がない　酸化膜がエッチングされない　表面粗さの改善（表面を傷つけない）　化学薬品を使用しない常温処理で徹底的なランニングコスト削減　廃液処理不要のク

サンプリング不要で、測定から記録まで約2秒　軽量・可搬式であるため、あらゆる場所に対応可能　

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