当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値（0.5Ω/□以下）、全光線透過率70％以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。　パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面（金属面）・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。

880nm～1100nmの近赤外線透過率10％以下を実現　全光線透過率70％以上を実現する、クリアな膜質　フィルム状で、ご希望サイズへの加工が可能（製品幅調整、シート加工可能）