ノズルとヒーターを一体化　効率的な急速乾燥・加熱で省エネルギー、省スペース化を実現　　熱ロスが無く熱効率が良い　巾方向の温度が均一で加熱乾燥に最適　設備のコンパクト化が簡単　既設設備の大幅な改善・改良が不必要　乾燥加熱の作業性アップ　乾燥炉内の温度をゾーンごとに変更・制御が簡単　ヒーター容量は自由に設計可能　吹出温度は最高750℃　熱源は、電気ヒーター、ガス、スチームも利用可能　空気源は、コンプレッサー、ファン、ブロアーが選定可能

ノズルとヒーターを一体化　効率的な急速乾燥・加熱で省エネルギー、省スペース化を実現　　熱ロスが無く熱効率が良い　巾方向の温度が均一で加熱乾燥に最適　設備のコンパクト化が簡単　既設設備の大幅な改善・改良が不必要　乾燥加熱の作業性アップ　乾燥炉内の温度をゾーンごとに変更・制御が簡単　ヒーター容量は自由に設計可能　吹出温度は最高750℃　熱源は、電気ヒーター、ガス、スチームも利用可能　空気源は、コンプレッサー、ファン、ブロアーが選定可能

高岳の光ファイバ温度計は、光ファイバを採用した光学現象によるセンシングシステムです。従来の温度センサでは困難であった高電圧部や電磁界中での温度測定が行えます。　　高電圧充電部の温度測定および監視・制御　高周波・マイクロ波加熱装置の温度制御および測定　アンテナの温度測定　プラズマ近傍の温度測定

さらに進化したMGPディスペンサー　当社では各種吐出作業の自動化を目指して、お客様のサンプル実験をお受けしています。　実験は基本的に無償でお受けし、その結果を協議しながら最適な仕様をご提供致します。　2液性エポキシ、ウレタン、シリコーン樹脂等の安定した吐出を実現します。他、1液タイプの吐出装置も用意おります。

真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置

ノズルとヒーターを一体化　効率的な急速乾燥・加熱で省エネルギー、省スペース化を実現　　熱ロスが無く熱効率が良い　巾方向の温度が均一で加熱乾燥に最適　設備のコンパクト化が簡単　既設設備の大幅な改善・改良が不必要　乾燥加熱の作業性アップ　乾燥炉内の温度をゾーンごとに変更・制御が簡単　ヒーター容量は自由に設計可能　吹出温度は最高750℃　熱源は、電気ヒーター、ガス、スチームも利用可能　空気源は、コンプレッサー、ファン、ブロアーが選定可能

ノリタケセラミックフィルターを使用した非加熱精製装置が可能にします　　高純度ダイアフィルトレーションを構築可能　再生可能なセラミックフィルターで繰り返し使用可能　耐食性ラインナップが豊富　多彩な膜孔径ベストマッチ可能

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レギュラーベルトコンベヤラインナップ　耐熱・クリーン・清潔な搬送に最適！　　重量搬送（数10kg）に適応。幅400mm以上には自動蛇行防止装置（EPC）を付ければ、面倒な蛇行調整不要。　　乾燥ワークに対応可能。加熱、乾燥雰囲気の搬送などに。中量搬送（10数kg）に適応。　　耐熱性、耐薬品性、クリ-ン性を求める所に最適。真空内でも使用可能。帯電も50V以下と極小。　　弊社独自開発の蛇行（片寄り）を防止する装置。従来の蛇行防止法では難しいコンベヤに組み込み可能。面倒な蛇行調整不要。モータ式とエアー式がある。

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瞬間加熱　局部加熱　均一加熱　クリーン加熱　自動化が容易　表面のみの加熱

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真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置

ノズルとヒーターを一体化　効率的な急速乾燥・加熱で省エネルギー、省スペース化を実現　　熱ロスが無く熱効率が良い　巾方向の温度が均一で加熱乾燥に最適　設備のコンパクト化が簡単　既設設備の大幅な改善・改良が不必要　乾燥加熱の作業性アップ　乾燥炉内の温度をゾーンごとに変更・制御が簡単　ヒーター容量は自由に設計可能　吹出温度は最高750℃　熱源は、電気ヒーター、ガス、スチームも利用可能　空気源は、コンプレッサー、ファン、ブロアーが選定可能

ソフトな乾燥から高分散が必要な乾燥など、目的に応じ運転をコントロールできます。　本体ジャケット・底板・天板・攪拌羽根など、あらゆる部分を加熱します。　攪拌羽根には上部から駆動され、下部に軸受けはありません。　クリーニング作業が容易です。Cip対応、FDA適合　　本機は堅型乾燥機で特殊なヘリカルミキシングツールにより理想的な渦巻運動を生じさせ、本体ジャケットの加熱に加えミキシングツール（攪拌羽根）の加熱により速くて優しい混合・乾燥を行います。乾燥以外にも加熱、冷却、熱処理、滅菌、反応などの操作も行えます。

ノズルとヒーターを一体化　効率的な急速乾燥・加熱で省エネルギー、省スペース化を実現　　熱ロスが無く熱効率が良い　巾方向の温度が均一で加熱乾燥に最適　設備のコンパクト化が簡単　既設設備の大幅な改善・改良が不必要　乾燥加熱の作業性アップ　乾燥炉内の温度をゾーンごとに変更・制御が簡単　ヒーター容量は自由に設計可能　吹出温度は最高750℃　熱源は、電気ヒーター、ガス、スチームも利用可能　空気源は、コンプレッサー、ファン、ブロアーが選定可能

省スペースで設置ができます。　電気加熱、空冷方式で蒸留します。（蒸気及び冷却水装置が不要）　溶剤を吸引、圧送します。　蒸留後のスラッジ自動排出します。　装置は安全増防爆構造です。

真空中、ガス中などご希望の雰囲気を自在に選べます。　　熱CVD装置方式用加熱炉　セラミックスの焼成　金属の弾性試験装置用加熱炉　熱サイクル試験装置　窒素雰囲気での半田付け装置