・最大8インチウエハへの大面積つなぎパターン ・hp：80nm（L&S）を、±10nm以下の繋ぎ合わせ精度で8インチ全面に再現良くパターンニング可能 ・太陽電池やLEDへの応用が期待されているナノインプリント技術に対応 ・ナノインプリントに限らず、様々な光学素子にも対応　 ・半導体プロセスを使用し、量産性の優れた安価なモール ドを製作可能 ・半導体プロセスを応用した石英への超微細加工（一部Si等の基板にも対応可）/御希望の側壁角度の制御が可能 【標準品hp75nm～200nm　混在モールド】 基板サイズ：20nm□ 基板厚：0.85㎜ 材質：合成石英 パターン領域：4mm□ パターン幅：75m/100nm/150nm/200nm パターン深さ：200nm

・最大8インチウエハへの大面積つなぎパターン ・hp：80nm（L&S）を、±10nm以下の繋ぎ合わせ精度で8インチ全面に再現良くパターンニング可能 ・太陽電池やLEDへの応用が期待されているナノインプリント技術に対応 ・ナノインプリントに限らず、様々な光学素子にも対応 ・半導体プロセスを使用し、量産性の優れた安価なモール ドを製作可能 ・半導体プロセスを応用した石英への超微細加工（一部Si等の基板にも対応可）/御希望の側壁角度の制御が可能 【moth-eye標準品（2種用意）】 ・パターン寸法：P=160nm/P=200nm/P=250 ・パターン形状：正方配列(P=160、200nm)/三方配列（P=250nm） ・パターン深さ：350nm±35nm ・パターンエリア：□24mm（共通） 【標準品共通仕様】 ・材質：合成石英 ・外形寸法：34㎜×32㎜ ・基板厚：0.85mm±0.05㎜ ・熱膨張率：≦6.5×10-7（15～300℃）

・hp：80nm（L&S）を、±10nm以下の繋ぎ合わせ精度で8インチ全面に再現良くパターンニング可能 ・太陽電池やLEDへの応用が期待されているナノインプリント技術に対応 ・ナノインプリントに限らず、様々な光学素子にも対応 ・半導体プロセスを使用し、量産性の優れた安価なモール ドを製作可能 ・半導体プロセスを応用した石英への超微細加工（一部Si等の基板にも対応可）/御希望の側壁角度の制御が可能 【ピラーパターン標準品（2種用意）】 ・パターン寸法：P=250nm/P=350nm ・パターン形状：三方配列(P=250nm)/正方配列（P=350nm） ・パターン深さ：250nm±25nm(P=250nm)/P=350nm±35nm（P=350nm） ・パターンエリア：□24mm（共通） 【標準品共通仕様】 ・材質：合成石英 ・外形寸法：34㎜×32㎜ ・基板厚：0.85mm±0.05㎜ ・熱膨張率：≦6.5×10-7（15～300℃）

・最大8インチウエハへの大面積つなぎパターン ・hp：80nm（L&S）を、±10nm以下の繋ぎ合わせ精度で8インチ全面に再現良くパターンニング可能 ・太陽電池やLEDへの応用が期待されているナノインプリント技術に対応 ・ナノインプリントに限らず、様々な光学素子にも対応 ・半導体プロセスを使用し、量産性の優れた安価なモール ドを製作可能 ・半導体プロセスを応用した石英への超微細加工（一部Si等の基板にも対応可）/御希望の側壁角度の制御が可能 　　　 【L&Sパターン標準品（3種用意）】 パターン寸法：hp60nm/hp75nm/hp100nm パターン深さ：150nm±15nm（各hp共通） パターンエリア：□24mm（各hp共通） 【標準品共通仕様】 材質：合成石英 外形寸法：34mm×32mm 基板厚：0.85mm±0.05mm 熱膨張率：≦6.5×10-7（15～300℃）

[特徴] UniStrip 2300は 0.03～6mm2(AWG 32 - AWG 10)、最大ケーブル径5.5mmまでのケーブルに対応する電線ストリップ装置です。タッチパネルを採用し、プログラム登録を容易に行うことができます。 [UniStrip 2300] 3mmグリッパー/3mmダイヤモンドグリッパー/ダイヤモンドグリッパー(オプション) マルチ言語対応（8カ国語に対応） その他のオプション(フットスイッチ) [UniStrip 2300 拡張機能] ◆ケーブル加工に必要な多種多様な設定が可能 ◆メモリ登録機能 ◆微調整可能なウェイバック機能により、極めて美しいストリップ断面を実現。テフロン線加工に最適！ ◆エアーブロー機能（近日リリース予定） ◆先端カット後のセミストが可能 ◆マルチストリップ機能 ◆リグリップ機能

現在主力の抵抗膜式、静電容量式の他、光学式や新型タッチパネルについても紹介する。

1台のパソコンでラインセンサー最大16台 リアルタイム処理！ あらゆる無地素材の欠陥検査に ・簡単設定　簡単操作 ・最大4ギガのフレームメモリー搭載 ・高速処理エンジン搭載 ・シミュレーション機能搭載 ・いつでもラインセンサー追加可能

●最大1.8 MB/秒（標準）および 7.2 MB/秒（HS488）のIEEE 488.1規格転送速度 ●Hi-Speed USB準拠、USB 1.x Full-Speedポート対応 ●計測器の接続にGPIBケーブルが不要、プラグアンドプレイでの接続と構成が可能 ●Windows、Mac OS X、およびLinux®対応NI-488.2 ●RoHS指令に準拠、IEEE 488.2に完全準拠

アナログ入力、デジタル入出力、カウンタの機能を持った、多機能データ集録デバイス。 バスパワーでコンパクトなため、省スペース化、システム構築・導入にかかるコスト削減を実現。 （バスパワー、16ビット、250 kS/秒） ●16チャンネルのアナログ入力（16ビット）、250 kS/秒のシングルチャンネルサンプリングレート ●2 チャンネルのアナログ出力（16ビット、250 kS/秒）、4 チャンネルのデジタル入力、4 チャンネルのデジタル出力、32 ビットカウンタ ●USB バスパワーによる可動性の向上と自動検出、内蔵のネジ留め式端子台 ●OEM アプリケーション用にボードのみのキットをご用意 ●Visual Studio .NET用 Measurement Studio、LabVIEW、LabWindows™/CVI との優れた統合性

●16ビット分解能 ●ホットスワップ対応 ●4つの同時サンプルアナログ入力、100 kS/秒 ●NISTトレーサブルな校正 ●使用温度範囲：-40～70ºC

●ホットスワップ対応 ●4チャンネルの熱電対もしくは ±80 mV アナログ入力 ●使用温度範囲：-40～70ºC ●NISTトレーサブルな校正 ●24ビット分解能、50/60 Hzノイズ除去

電圧や温度用などのモジュールを挿入し、多種のセンサからの信号計測を1台のシステムで完了可能。 ●最大4つのCシリーズI/Oモジュールを収容可能 ●複数のタイミングエンジンを使用し、異なるレートでアナログ入力モジュールを実行 ●4つの汎用32ビットカウンタ/タイマ内蔵シャーシ（デジタルモジュールでアクセス） ●LabVIEW SignalExpress LEを含むNI-DAQmxドライバ ●Windows 7 OS対応 ●NI信号ストリーミングテクノロジを採用したHi-Speed USB

音響/振動アプリケーションに適した24ビット A/D を搭載したデータ集録デバイス。 USB バスパワーで、小型、軽量で携帯性に優れている。 ●チャンネルあたり最大51.2 kS/秒のサンプリングレート、±5 V入力 ●24ビット分解能、102dBのダイナミックレンジ、アンチエイリアスフィルタ ●ソフトウェアで設定可能なAC/DCカプリング、ACカプリング（0.5 Hz） ●ソフトウェアで設定可能なIEPE信号調節（0または2 mA） ●プラグアンドプレイセンサ（TEDS）対応 ●Hi-Speed USBデータ転送、USBバス電源

100 MS/秒のサンプリングレートで2チャンネル同時サンプリングができる。 USB バスパワーで、小型、軽量で携帯性に優れている。 ●バスパワー ●ポータブル ●100 MS/秒のリアルタイムサンプリング ●50 MHz帯域幅 ●2チャンネル同時サンプリング、8ビット分解能 ●1 MΩ入力インピーダンス

光電子増倍管(ホトマル)は光センサの中でも特に際立った高感度を有し、さらに高速時間応答特性など数々の優れた特性を備えています。2002年10月ノーベル物理学賞を受賞した小柴教授がニュートリノ検出に採用した光センサとして一躍脚光を浴びています。現在、光電子増倍管は高精度光計測を必要とする多岐に渡る分野で活躍しています。医用分野では臨床検査装置（血液検査・生化学検査等）、核医学画像診断装置（ガンマカメラ・ポジトロンCT等）、分析分野では分光光度計・環境計測機器等の各種分析機器、学術研究分野では衛星搭載・高エネルギー物理学実験、計測分野では油田探査・放射線計測、光学分野ではレーザスキャニング共焦点顕微鏡（LSCM）、半導体分野ではウエハ表面検査・プラズマプロセスモニタ・膜厚計測等、その他にも郵便物選別や農作物選別等に使用されています。

LC-L2は 365nmのUV-LEDを搭載したモジュールです。駆動回路内蔵のモジュール構造を採用し、スペースや場所を気にせず自由にレイアウトできます。また、LEDドライバハーネスを使用するため、従来の延長ケーブルが不要となり低コストも実現します。 ■特長 ●体積98%削減で省スペース設計 ●フィードバック機能も温度センサも不要 いつでも高安定・高出力 ●光専門メーカだからこそ可能 様々な光技術の応用 ●熱影響が少ない ●ファンレスでクリーンルームでも安心 ●低消費電力8Ｗ ●多ニーズに対応する外部制御

本講座では、超撥水・超親水化技術のメカニズムから、材料・素材の表面にコーティング加工による改質膜を形成させることでの新規な機能性を付与させる薄膜技術、接触角に関する基本事項と、撥水性の評価における注意点までがしっかり学べます。

本講座では受講者の皆様にPC演習(データベース演習、Excel・PowerPoint演習など)を通じて、特許情報だけではなく文献情報も含めた調査・分析テクニックを体得していただくことを目的としております。

基礎を中心に、中級レベルへの足掛かりまでを含めて徹底的に解説します。これまでの数十回にわたる講演経験に基づき、わかりやすく、目で見て記憶に残りやすい手法・説明で進めていきます。また、よくある質問(FAQ)に対する解説も多く盛り込んでいます。

本セミナーは、誰にでも理解が容易で効果抜群の“新FMEA”の基礎とその有効活用に軸足をおき、質疑応答とグループワーキングに重点をおいたセミナーです。講師は、設計コンサルタントとして各企業の開発部隊に中に入り、FMEAを実践指導しています。ここで得たノウハウ通して、ふんだんな「匠のワザ」を伝授します。