製品詳細
株式会社テクノビジョン
マスク洗浄装置 TWCシリーズ 技術資料提供中！
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露光工程のコスト削減の秘訣とは・・・
＞＞ 技術資料提供中
・マスクに付着したレジストを除去
・マスクに付着したパーティクルを除去
・専用薬液開発で環境負荷低減
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テクノビジョンのマスク洗浄装置「TWCシリーズ」は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する洗浄装置です。
マスクに付着したレジストやパーティクルを効率よく除去できますので、露光品質の向上による、製造品質の安定化、歩留り向上によりコスト削減が期待できます。
また、マスクを繰り返し使用することが可能となりますので、マスク代の節約にも大いに貢献致します。
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マスクに付着したレジストを簡単に除去 |
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マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 |
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マスクは消耗品から永久使用へ |
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洗浄液は、環境に優しいマイルドな水溶性薬液を開発 |
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危険で有害な熱硫酸、硫酸過水や有機溶剤から解放 |
①専用薬液への浸漬による洗浄 → レジスト除去
②純水によるリンス
③ロールブラシによるスクラブ洗浄 → パーティクル除去
④純水スプレーによるリンス
⑤ホット純水乾燥により乾燥
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レジスト除去には、国内大手薬品メーカーとの共同により開発した専用薬液を利用。 |
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専用薬液は、地球にやさしい水溶性薬液。 |
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ポジタイプレジスト、ネガタイプレジストの両方に対応。 |
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レジスト付着状況に応じた洗浄薬液を用意。 |
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汚染状況に応じた洗浄レシピを提供。 |
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※評価用無料洗浄テストご希望の方は、今すぐご連絡下さい。
※洗浄に関する技術資料をご希望の方は、下記よりお申し込みください。 |
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| フォトマスク洗浄装置 |
| フォトマスクの精密両面スクラブ洗浄装置 |
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化。
マスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化に大きく貢献。
スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した装置、4機種をご用意。 |
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| フォトマスク洗浄装置 TWC-300 |
露光工程（コンタクト、プロキシミティー）の
経費を劇的に削減 |
マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去。
薬液洗浄→リンス→ソフトスクラブ洗浄→リンス→乾燥の全工程を自動化。
オペレーターはマスクを脱着するだけ。
フォトマスクのクリーン化で露光プロセスの品質向上と歩留り向上に大きく貢献いたします。 |
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