製品詳細

株式会社AndTech

『高分子分析の実際』~分析の進め方、分析法の選択から高分子分析、表面・局所分析の実際まで~

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11月26日セミナー

★前処理、分光分析法、核磁気共鳴分光法、MALDI-TOFMS、X線回折、散乱法、熱分解ガスクロマトグラフィー、熱分析、、、
★高分子分析に関する分析相談会の時間をご用意しております!

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株式会社AndTech

【所在地】〒214-0032神奈川県川崎市多摩区枡形6丁目16番17501号

【電話番号】050-3538-1954 【FAX番号】050-3658-0119

【URL】http://www.techzone.jp/

【講 師】群馬大学 非常勤講師 客員教授 工学博士 西岡 利勝 氏

【会 場】産業振興会館 第1会議室【神奈川・川崎駅】

【日 時】平成22年11月26日(金) 10:30~16:30

【定 員】30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

【聴講料】1名につき45,150円(税込、テキスト費用・お茶代含む)
11月16日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒39,900円
◆同一法人より2名でのお申し込みの場合、69,300円


詳細確認またはお申込をご検討されている方は下記URLをご覧ください ▼
http://ec.techzone.jp/products/detail.php?product_id=1084




【ご経歴】
高分子学会フェロー、(独)製品評価技術基盤機構(NITE)非常勤
高分子学会高分子表面研究会運営委員
元・出光興産、前・群馬大学産学連携イノベーションセンター客員教授


【講演主旨】
高分子材料の分析によく用いられる代表的な分析手法の基礎と得られる情報を説明するとともに高分子分析の実際と表面・界面および局所分析の実際を詳述する。




【プログラム】

1.分析の進め方、分析法の選択

2.高分子分析の基礎と得られる情報
2.1 前処理技術
2.2 分光分析法(赤外分光、ラマン分光、紫外・可視分光など)
2.3 核磁気共鳴分光法
2.4 MALDI-TOFMS
2.5 X線回折、散乱法
2.6 熱分析
2.7 熱分解ガスクロマトグラフィー
2.8 分子量、分子量分布
2.9 構造の不均一性、組成分布

3.表面・局所分析および局所分析の基礎と得られる情報
3.1 X線光電子分光法
3.2 二次イオン質量分析
3.3 電子顕微鏡
3.4 原子間力顕微鏡

4.高分子分析の実際
4.1 高分子の識別
4.2 高分子中の添加剤分析
4.3 劣化の解析

5.表面・局所分析および局所分析の
5.1 異物分析
5.2 ブリード、べたつきの分析
5.3 白化、着色の分析
5.4 表面荒れ
5.5 部分的なクラック

6.高分子分析に関する分析相談会

【質疑応答・名刺交換】