製品詳細

株式会社テクノビジョン

フォトマスク洗浄装置 TWC-300

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露光工程(コンタクト、プロキシミティ)のコスト削減!
技術資料提供中

■マスクに付着した1μm以上のパーティクルと
 レジスト残渣を一挙に完全除去。

(1)薬液洗浄→リンス→ソフトスクラブ洗浄→
  リンス→乾燥の全工程を自動化。

(2)オペレーターはマスクを脱着するだけ。

(3)フォトマスクのクリーン化で露光プロセスの
  品質向上と歩留り向上に大きく貢献。

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株式会社テクノビジョン

【所在地】〒350-0165埼玉県比企郡川島町中山2078

【電話番号】049-299-1385 【FAX番号】049-299-1386

【URL】http://www.techvision.co.jp/

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◆レジスト除去
マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分けられます。

モデルTWCー300では、汚染の度合いに適した洗浄剤を使用することで時間、労力、経費の節約をはかり、洗浄効率の向上を実現しました。

◆パーティクル除去

フォトマスクに付着したパーティクルは、そのほとんどが露光時に光を遮断しパターンの一部としてワークに転写されて不良品の発生となります。このようなトラブルを未然に防ぐためにテクノビジョンは、「マスクの洗浄・管理は露光プロセスの重要な一環」という思想に基づきモデルTWC-300を開発いたしました。

面倒なマスク洗浄を人手に頼らずルーチン化することで、露光の品質向上と製品の安定化・歩留まり向上に貢献いたします。

■ 特徴

10,000,000円前後のマスク代を毎月削減

マスクに付着したレジストを簡単に除去

マスクに付着したパーティクルを簡単に除去

マスクは消耗品から永久使用へ

洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発

熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放

高価なリムーバーや現像液なども不要

設置場所を取らない縦型コンパクト設計


※例は1製品で5~6種類のマスク、1日で100回露光毎にマスクを新品に交換。
マスク代を50,000~80,000円で計算

※各種オプションも用意。
※技術資料無料提供中!
※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。

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◆テクノビジョンの製品ラインナップ
汎用洗浄装置 卓上タイプ TWC-200
企業のR&D、公共研究機関、大学、
小ロット生産用途に最適
マスク、ウェーハ、各種基板に対応
・ドラフトチャンバー機能搭載
・ワークサイズMAX.200×200。
またはφ200まで対応?
・多彩な洗浄プロセスの設定
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カセット洗浄装置
R&D、小ロット生産対応機種
200mm用カセットまで洗浄できる
精密洗浄を目的としたコンパクトな洗浄装置
ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置。
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フォトマスク洗浄装置
フォトマスクの精密両面スクラブ洗浄装置
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化。
マスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化に大きく貢献。
スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した装置、4機種をご用意。
>詳細はこちら
全自動フォトマスク洗浄装置 TWC-200A
カセット to カセット
全自動マスク洗浄装置
1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を完全除去環境に優しいマイルドな薬液の提供も含めて、従来のアセトンや硫酸過水等の危険な薬液からの解放を実現しました。
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UVオゾン洗浄装置
紫外線オゾン洗浄装置
ワーク表面も有機物汚染の除去に作用
複雑な機構を必要としない、シンプルなドライ洗浄装置。
紫外線オゾン洗浄装置は、ワーク表面の有機物汚染の除去及び、表面改質を行う。
ファイナル洗浄として威力を発揮。
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スーパークリーンヒーター
インラインタイプの純水、
超純水加熱ヒーター
流体を汚染させる事無く瞬間加熱を行うヒーター。
加熱部に高純度石英を採用した超純水用(QHシリーズ)、加熱部にステンレス(SUS316-EP処理)を採用した不活性ガス/クリーンドライエアー用(SHシリーズ)をご用意。
装置組込み、既設ラインに組込み等インライン設置に最適。
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【後工程・組立関連】

ウェーハーマウンター/フィルムマウンター
ウェーハーエキスパンダー/ウェハー拡張装置

UV照射装置(LED光源仕様)
動画公開中

UVフィルム硬化装置/UV照射装置
LED光源仕様 全自動UV硬化装置 UVC-200A
グリップリング