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製品詳細
株式会社テクノビジョン
フォトマスク洗浄装置 TWC-300
露光工程(コンタクト、プロキシミティ)のコスト削減!
技術資料提供中
■マスクに付着した1μm以上のパーティクルと
レジスト残渣を一挙に完全除去。
(1)薬液洗浄→リンス→ソフトスクラブ洗浄→
リンス→乾燥の全工程を自動化。
(2)オペレーターはマスクを脱着するだけ。
(3)フォトマスクのクリーン化で露光プロセスの
品質向上と歩留り向上に大きく貢献。
- 株式会社テクノビジョン
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【所在地】〒350-0165埼玉県比企郡川島町中山2078
【電話番号】049-299-1385 【FAX番号】049-299-1386
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| ◆レジスト除去 マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分けられます。 モデルTWCー300では、汚染の度合いに適した洗浄剤を使用することで時間、労力、経費の節約をはかり、洗浄効率の向上を実現しました。 ◆パーティクル除去 フォトマスクに付着したパーティクルは、そのほとんどが露光時に光を遮断しパターンの一部としてワークに転写されて不良品の発生となります。このようなトラブルを未然に防ぐためにテクノビジョンは、「マスクの洗浄・管理は露光プロセスの重要な一環」という思想に基づきモデルTWC-300を開発いたしました。 面倒なマスク洗浄を人手に頼らずルーチン化することで、露光の品質向上と製品の安定化・歩留まり向上に貢献いたします。 |
■ 特徴
| ■ | 10,000,000円前後のマスク代を毎月削減※ | |
| ■ | マスクに付着したレジストを簡単に除去 | |
| ■ | マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 | |
| ■ | マスクは消耗品から永久使用へ | |
| ■ | 洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 | |
| ■ | 熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 | |
| ■ | 高価なリムーバーや現像液なども不要 | |
| ■ | 設置場所を取らない縦型コンパクト設計 | |
| ※例は1製品で5~6種類のマスク、1日で100回露光毎にマスクを新品に交換。 マスク代を50,000~80,000円で計算 |
※各種オプションも用意。
※技術資料無料提供中!
※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。
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◆テクノビジョンの製品ラインナップ
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| 【後工程・組立関連】 | ||||
| ウェーハーマウンター/フィルムマウンター ウェーハーエキスパンダー/ウェハー拡張装置 |
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| UVフィルム硬化装置/UV照射装置 LED光源仕様 全自動UV硬化装置 UVC-200A グリップリング |
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