プリズム

製品情報

製品詳細

株式会社テクノビジョン

汎用洗浄装置　卓上タイプ　TWC-200

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企業のR&D、公共研究機関、大学、
小ロット生産用途に最適

マスク、ウェーハ、各種基板に対応

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株式会社テクノビジョン

【所在地】〒350-0165埼玉県比企郡川島町中山2078

【電話番号】049-299-1385 【FAX番号】049-299-1386

【URL】http://www.techvision.co.jp/

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■ 用途と特徴

■ ドラフトチャンバー機能搭載。

■ ワークサイズMAX.200×200。又はφ200まで対応

■ 薬液加熱機能付き（オプション）

■ 薬液洗浄槽には超音波機能を付加できます（オプション）

■ 多彩な洗浄プロセスの設定。

■ 推奨薬液を用意、薬液開発の相談にも応じます。

■ 地球環境にマイルドな水溶性薬液を使用。

■ 熱硫酸、硫酸過水などの危険から解放。

■ ワークは自動搬送またはマニュアル操作。

■ ユーティリティー
寸　法 750（W）×600（D）×750（H）　暫定寸法

本装置に使用する薬液は株式会社パーカーコーポレーション（提携会社）//www.parkercorp.co.jp により全面的なサポート体制が整っております。また、新薬液の開発も承っております。

◆テクノビジョンの製品ラインナップ
カセット洗浄装置
R&D、小ロット生産対応機種
200mm用カセットまで洗浄できる
精密洗浄を目的としたコンパクトな洗浄装置
ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置。
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フォトマスク洗浄装置
フォトマスクの精密両面スクラブ洗浄装置
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化。
マスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化に大きく貢献。
スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した装置、4機種をご用意。
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フォトマスク洗浄装置 TWC-300
露光工程（コンタクト、プロキシミティー）の
経費を劇的に削減
マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去。
薬液洗浄→リンス→ソフトスクラブ洗浄→リンス→乾燥の全工程を自動化。
オペレーターはマスクを脱着するだけ。
フォトマスクのクリーン化で露光プロセスの品質向上と歩留り向上に大きく貢献いたします。
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全自動フォトマスク洗浄装置 TWC-200A
カセット to カセット
全自動マスク洗浄装置
1μｍ以上のパーティクルとレジスト残渣を完全除去環境に優しいマイルドな薬液の提供も含めて、従来のアセトンや硫酸過水等の危険な薬液からの解放を実現しました。
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UVオゾン洗浄装置
紫外線オゾン洗浄装置
ワーク表面も有機物汚染の除去に作用
複雑な機構を必要としない、シンプルなドライ洗浄装置。
紫外線オゾン洗浄装置は、ワーク表面の有機物汚染の除去及び、表面改質を行う。
ファイナル洗浄として威力を発揮。
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スーパークリーンヒーター
インラインタイプの純水、
超純水加熱ヒーター
流体を汚染させる事無く瞬間加熱を行うヒーター。
加熱部に高純度石英を採用した超純水用（QHシリーズ）、加熱部にステンレス（SUS316－EP処理）を採用した不活性ガス／クリーンドライエアー用（SHシリーズ）をご用意。
装置組込み、既設ラインに組込み等インライン設置に最適。
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【後工程・組立関連】

ウェーハーマウンター／フィルムマウンター
ウェーハーエキスパンダー／ウェハー拡張装置

UV照射装置（LED光源仕様）
動画公開中

UVフィルム硬化装置／UV照射装置
LED光源仕様 全自動UV硬化装置 UVC-200A
グリップリング