人とくるまのテクノロジー展2008に出品します

重イオンエネルギーとウエットケミカルエッチングを利用して製造されたメンブラン。特徴は10μmまでポア（空孔）を高精度にあけることが可能　430℃まで耐えられるPolymideに加工ができる　10μm四方の狭いエリアにポア（穴）をあけることが可能。