製品詳細
(株)日本レーザー
パターン・ジェネレータ 用途例
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その他
分散装置
マーキング
生産対応モデルから、
卓上型のR&D向けモデルまで
最小描画サイズ0.5μmのフォトマスク生産対応モデルから、卓上型でお求めやすい価格のR&D向けモデルまで。ご用途に最適な装置をご提案
・サブ・ミクロンを実現する
ラスタ・スキャン・ベースの描画方式
・グレー・スケール露光機能
・アライメント機能
・多様なデザイン・データ・フォーマットに対応
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製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861 |
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卓上型のμPG(マイクロ・ピー・ジー)シリーズ、高精細でグレイ・スケール露光機能を搭載可能なDWLシリーズ、そして高精細且つ高スループットのVPGシリーズをラインナップしています。 |
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フォトマスク描画 |
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・ミドル~ロー・エンド・フォトマスク製造、マイクロ・デバイスの試作/開発 ・MEMS、BioMEMS、アドバンスド・パッケージング、センサー、マイクロ流路、ASIC |
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直描 |
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・マイクロ・デバイスの多品種少量生産、デバイスの試作/開発 ・MEMS、BioMEMS、アドバンスド・パッケージング、各種センサー、マイクロ流路、ASIC |
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courtesy of Dr. Victor Cadarso and Prof. Jürgen Bruckner, EPFL (V.J. Cadarso, et al., J. Micromech. Microeng. 2011) |
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3D露光/厚膜露光 |
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・インプリント・モールド製造/LIGAプロセス ・マイクロ・オプティクス、マイクロ流路、パターン化サファイア基板、微小機械部品 等の製造用 |
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デバイス試作の効率化から、高精細フォトマスクやインプリント・モールドのマスター製造、そして多品種少量生産のマスクレス化まで多様なニーズに対応します。 |
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フォトマスク |
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インプリント・モールドのマスター |
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多品種少量生産 |
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