半導体製造工程で選ばれる「理由」がここに！

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。