製品詳細
(株)日本レーザー
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+”
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その他
プロセス装置
最少描画サイズ0.6μm。多様な用途に対応可能
研究開発用途でフォトマスクの試作や直描を行うのに最適。
低価格かつ高精度なレーザー・リソグラフィシステム。
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ワールドワイドで120台以上の納入実績を誇るDWL66シリーズの最新モデル。サブ・ミクロンに至る高精細な描画性能の他、専門用途のグレイ・スケール露光機能の搭載~バックサイド・アライメント機能まで多様なオプション機能をラインナップ。R&D用途に最適なモデルです。 |
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- 最大描画エリア:200×200mm2
- 最小描画サイズ:0.6μm(オプション)
- 最小アドレス・グリッド:10nm@0.6μm(オプション)
- 描画スピード:39mm2/分@1μm
- グレイスケール露光モード(オプション)
- ベクター・スキャン・モード(オプション)
- 選択可能なレーザー源:LD(標準), UVLD/DPSS(オプション)
- 計測、アライメント機能
- バックサイド・アライメント・システム(オプション)
- 光学式オートフォーカス(オプション)
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