製品詳細

昭和電工(株)

厚膜フッ化ニッケル不働態処理 クリーンエス処理AFタイプ

真空機器

厚膜フッ化ニッケル不働態処理

ほぼ完全なNiF2で形成でき、最高5ミクロンまで自由に膜厚を調整できます。 各種ステンレス鋼、鉄鋼、アルミニウム素材にも形成できます。 マイクロビッカーズ硬度(Hmv)は500~600あり、皮膜の強度と耐久性があります。 フッ素ガス及びフッ素系の強腐食性ガスに対する耐食性に優れています。 放出ガス量は、常温で1×10^-9Torr・L/s/cm2。150℃、9時間のベーキングで9×10^12Torr・L/s/cm2であり真空領域での使用にも問題ありません。 海水、塩害腐食に対する効果もあります。

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