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ピエゾシステムイエナ社の光学機器
〈アプリケーション例〉
このセクションではビームシャッターにおけるピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。Piezosystem jena製品は光ビームやX線及びシンクロトロンアプリケーションで使用できます。
製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861
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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション〉
-ビームシャッター-

アプリケーション 推奨システム
光学ビーム X軸ステージ PX1500
シャッター/スリットシステム PZSシリーズ
X線&シンクロトロン応用 シャッター/スリットシステム PZSシリーズ

X線コリメーション用製品

Lawrence Berkley National Lab Beamlineの構築に用いられたPureEdge 240
現在X線顕微鏡に採用されている結晶学やX線小角散乱による手法では、非常に良好なコリメート光が求められます。X線システムでのS/N比を最適化するためには、開口径をサンプルサイズにできる限り一致させる必要があります。
ほとんどのX線システムにはタングステンやタンタルディスクを材料にドリルやレーザーアブレーションで穴あけしたピンホールアパーチャが使用されています。実際には各サンプルサイズに応じてピンホールを交換しなければなりません。
PureEdge システムを用いると、可変アパーチャとビジュアルアライメントツールを組合せた散乱のほとんどないビームコリメーションが実現できます。

互換性及び柔軟性
いかなるラボアップグレードでも統合しやすさは重要です。piezosystem jena社のシステムはコンパクトサイズで、使用中のビームラインや他のX線ソースへのドロップイン組込みに便利です。

新しい PureEdge X線コリメータ - Lawrence Berkeley National社と共同開発
PureEdge 240 コリメータは、ビームライン 12.3.1 へのアップグレード部品として、Lawrence Berkeley National と共同で開発した製品です。結晶サンプルのサイズ変更に応じてアパーチャサイズが整合され、データ取得中S/N比が最適化されます。
本技術開発の背景にあるコンセプトは、面倒な異なるサイズのピンホールアパーチャの交換に代わって、制御可能な二重スリットデザインを導入しようとするものです。このデザインで高い安定とX線散乱特性の改善が見られました。また初期のアライメント技術における進歩は、この新しいコリメーションコンセプトの一部を担っています。
FEA最適化ガイダンスを用いた正確な平行運動
特許の固体ヒンジで機械的遊びのない(バックラッシュ無し)モーションを実現
独立の2エッジペア・アパーチャコントロール: 最大240μm。クローズドループ制御
16ビットまたは20ビットコントロール
超低散乱

◆主な応用例
X線結晶学
X線コリメーション
X線小角散乱(SAXS)

◆PureEdgeの主な利点
piezosystem jena社のPureEdge コリメータには今日利用できる既存技術をはるかにしのぐ多数の利点がございます。
速度 - PureEdgeシステムは、必要であれば高速シャッタとして10 Hz以上で連続的にクローズド操作できます。
精度 - PureEdgeシステムは8 nm 未満の分解能で、市販のバリアブルアパーチャシステムで最も正確です。
純度 - PureEdge コリメータは散乱がほとんどありません。Scatterguard Viewportアクセサリで余計な散乱を最小化しています。
接続性 - PureEdge デザインのオープンアーキテクチャでさまざまなX線システムへ容易に統合できます。サイドのマウントホルダに任意のまたはpiezosystem jena社のアクセサリを取り付けられます。システム全体を真空仕様で提供できます。
コンパクト – 小さな外形(85 x 85 mm)でスペースの限られた既存システムへの統合が容易です。


ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉

ビームシャッター 光ファイバ ライフサイエンス
(生命科学)
マテリアルサイエンス
(物質科学)
機械工学 計量学
顕微鏡検査 ナノ位置決め 光学
半導体 バルブ技術 オートフォーカス装置
(自動焦点装置)

> piezosystem jena 社の光学機器 製品ラインナップ

ラインナップ

piezosystem jena 社の光学機器
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動システムによる
高速・高効率・広帯域な光スイッチ
・ピエゾ素子による高速&高精度ファイバカップリング
・標準 1~9チャンネル
・モジュールのカスケード接続で100以上までチャンネル数を増設可能
・対応ファイバコア径 50~600μm
・内部光学部品無し: 紫外から赤外までカバー
>詳細はこちら
ピエゾ駆動光学マウント
種々のコンポーネントや
アプリケーションに柔軟に対応
・顕微鏡用対物レンズマウント
・アプリケーションごとに選べるチップ&チルト・ミラーマウント
・最大開口1500μmの光シャッター/スリット
・使い易いファイバポジショニングシステム
・マイクロメータスクリュードライブ
・グリッパー
>詳細はこちら
ピエゾ駆動ステージ
LDなど光学部品の精密ポジショニング及び
スキャニング用途に適した、
安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ
・X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転
・最大1500μmのロングトラベル達成
・クローズドループオプション
・真空/極低温対応可能
>詳細はこちら
NanoX 高速ポジショナ
最大10kgもの大荷重でも、
高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。
複数のポジショナを組み合わせることも可能。
・2つのスタック・アクチュエータを組み合わせる双方向アクティブ法採用
・高精度、高い耐荷重で高速の動的用途に最適
>詳細はこちら
スタックアクチュエータ
多層セラミック技術をもとにした
スタック型ピエゾアクチュエータ
・数kNもの高い耐負荷量と1nm未満の高分解能を同時に実現
・長寿命
・クローズドループ対応
・真空、極低温対応
>詳細はこちら

◆日本レーザーの製品ラインナップ
【パターン・ジェネレータ】 (レーザー描画装置・レーザー加工装置)
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】
【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
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レーザー専門商社の草分けとして、1968...
主として海外製品の輸入販売を行っています。取扱製品を大きく分類すると、次のような製品・技術に分類することができます。 【レーザー】 海外から、多種類の最先端レーザー製品を輸入し、あらゆる業種・用途に適応できるように多彩な製品群を用意し、お客様の目...
光学測定
温度/湿度/密度/比重測定
検査機器
分析機器
その他理化学関連機器
温度
変位/位置
その他
工業用カメラ
レンズ
光源/照明
画像計測/解析機器
画像処理ソフト
材料組立
その他
CAD/CAM/CAE
その他
計測/制御/分析/検査機器
超微細加工装置
評価/計測機器
バイオ/医療関連
その他
太陽
水素/燃料電池
RFID関連
その他
その他
メカトロニクス
MEMS
マーキング
その他
アクセサリ
画像処理周辺機器
画像素子/部品
組立装置
一般装置
その他
加工
その他
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