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ピエゾシステムイエナ社の光学機器
〈アプリケーション例〉
このセクションでは半導体分野におけるピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。Piezosystem jena製品はマスクアライメント、リソグラフィ、ナノメトロロジー、ウエハ検査、ウエハ位置決めに使用できます。
製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861
お問い合わせ この製品のWEBサイト

ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション〉
-半導体分野-


アプリケーション 推奨システム
マスクアライメント
(マスク合わせ)
X軸ステージ PXシリーズ
XY軸ステージ PXYシリーズ
XYZ軸ステージ TRITOR シリーズ
リソグラフィ フォーカスレンズポジショナ MIPOSシリーズ
Z軸ステージ PZシリーズ
X軸ステージ PUシリーズ
XYZ軸ステージ TRITOR シリーズ
ナノ計測 フォーカスレンズポジショナ MIPOSシリーズ
XY軸ステージ PXYシリーズ
XYZ軸ステージ TRITOR シリーズ
Z軸ステージ PZシリーズ
nanoSXY 120 高速ピエゾポジショナ
nanoSXY 400 高速ピエゾポジショナ
ウェハ検査 フォーカスレンズポジショナ MIPOSシリーズ
XY軸ステージ PXYシリーズ
XYZ軸ステージ TRITOR シリーズ
Z軸ステージ PZシリーズ
ウェハ位置決め X軸ステージ PUシリーズ
Z軸ステージ PZシリーズ
XY軸ステージ PXYシリーズ
ケース付きスタックアクチュエータ PAシリーズ
NanoX 高速ポジショナ


ウエハ検査システム内でのウエハの高精度ポジショニング


現在 標準的なウエハ径は8インチです。業界全体ではより大きい径のウエハ製造へ移行しつつあります。このような背景において、ステルスダイシング、リソグラフィ、ドーピング、イオン注入、平坦化といった製造加工技術には、より大きな基板の高精度ポジショニングが不可欠です。薄膜技術では基板とストラクチャに厳しい要件が求められます。
Piezosystem jena社では新しいより大きなウエハの検査向けのポジショニングシステムを製造しています。このシステムは最大12インチ径のウエハのポジショニング用に設計されたもので、ウエハを精密に保持し、高い位置精度と繰返し精度が得られます。システムは自動インラインコントローラまたはスタンドアローンポジショナのいずれとしても使用できます。非常に高精度なポジショニングシステムですので、製造・加工管理の安定的な実行と、品質管理におけるサイクル時間の短縮を実現します。このPiezosystem jena社の新しいポジショニングシステムは、速度マイクロ秒単位、ミクロンレベルのステップ、再現性 数ナノメートルを達成。この優れた性能により、有用性の高いデータを素早く獲得することが可能です。


◆主な特長
測定範囲 < 300 µm
精密で繰返し精度の高いステップ
振動のない動作
短い立上り時間
ポジショニング制御

◆主な応用例
半導体及びソーラー関連製造 リソグラフィ
ディスプレイ製造 表面ストラクチャリング
表面検査 測定チップ
導体トラック測定 測定システム
品質管理 接合技術
詳細についてはお問合せください。

ステップ再現性 2nm

PZ 250 CAP WL 高精度ウエハポジショニング装置。

ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉

ビームシャッター 光ファイバ ライフサイエンス
(生命科学)
マテリアルサイエンス
(物質科学)
機械工学 計量学
顕微鏡検査 ナノ位置決め 光学
半導体 バルブ技術 オートフォーカス装置
(自動焦点装置)

> piezosystem jena 社の光学機器 製品ラインナップ

ラインナップ

piezosystem jena 社の光学機器
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動システムによる
高速・高効率・広帯域な光スイッチ
・ピエゾ素子による高速&高精度ファイバカップリング
・標準 1~9チャンネル
・モジュールのカスケード接続で100以上までチャンネル数を増設可能
・対応ファイバコア径 50~600μm
・内部光学部品無し: 紫外から赤外までカバー
>詳細はこちら
ピエゾ駆動光学マウント
種々のコンポーネントや
アプリケーションに柔軟に対応
・顕微鏡用対物レンズマウント
・アプリケーションごとに選べるチップ&チルト・ミラーマウント
・最大開口1500μmの光シャッター/スリット
・使い易いファイバポジショニングシステム
・マイクロメータスクリュードライブ
・グリッパー
>詳細はこちら
ピエゾ駆動ステージ
LDなど光学部品の精密ポジショニング及び
スキャニング用途に適した、
安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ
・X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転
・最大1500μmのロングトラベル達成
・クローズドループオプション
・真空/極低温対応可能
>詳細はこちら
NanoX 高速ポジショナ
最大10kgもの大荷重でも、
高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。
複数のポジショナを組み合わせることも可能。
・2つのスタック・アクチュエータを組み合わせる双方向アクティブ法採用
・高精度、高い耐荷重で高速の動的用途に最適
>詳細はこちら
スタックアクチュエータ
多層セラミック技術をもとにした
スタック型ピエゾアクチュエータ
・数kNもの高い耐負荷量と1nm未満の高分解能を同時に実現
・長寿命
・クローズドループ対応
・真空、極低温対応
>詳細はこちら

◆日本レーザーの製品ラインナップ
【パターン・ジェネレータ】 (レーザー描画装置・レーザー加工装置)

高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】
【パルスレーザー】

パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【インプリント】

UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】

レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【SECOPTA社 LIBSシステム】

SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
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レーザー専門商社の草分けとして、1968...
主として海外製品の輸入販売を行っています。取扱製品を大きく分類すると、次のような製品・技術に分類することができます。 【レーザー】 海外から、多種類の最先端レーザー製品を輸入し、あらゆる業種・用途に適応できるように多彩な製品群を用意し、お客様の目...
光学測定
温度/湿度/密度/比重測定
検査機器
分析機器
その他理化学関連機器
温度
変位/位置
その他
工業用カメラ
レンズ
光源/照明
画像計測/解析機器
画像処理ソフト
材料組立
その他
CAD/CAM/CAE
その他
計測/制御/分析/検査機器
超微細加工装置
評価/計測機器
バイオ/医療関連
その他
太陽
水素/燃料電池
RFID関連
その他
その他
メカトロニクス
MEMS
マーキング
その他
アクセサリ
画像処理周辺機器
画像素子/部品
組立装置
一般装置
その他
加工
その他
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