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大荷重で最高精度のナノ/マイクロポジショニングを実現
最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。
複数のポジショナを組み合わせることも可能。

・2つのスタック・アクチュエータを組み合わせる双方向アクティブ法採用
・高精度、高い耐荷重で高速の動的用途に最適

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861
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概要


nanoX シリーズは、大荷重のアプリケーションで、最高精度のナノ/マイクロポジショニングタスクを実現するピエゾ駆動ポジショニングステージです。
例えば nanoX 400 は、動的用途でも最大 10kg の荷重に耐えます。ステージに用いられているアクチュエータには、“双方向アクティブ法”というピエゾ・スタック技術を採用しており、1つのピエゾポジショナに別々に制御される2つのピエゾをスタックしています。この技術では、1つ目のピエゾアクチュエータが電圧シグナルで充電されると、2つ目のアクチュエータが放電されます。このユニークな技術で、ピエゾポジショナはセットとリセットの両方の力を生じることができ、ステージは動的環境下でも高い荷重を可動できます。
標準タイプの nanoX と、小型の nanoSX があります。nanoSX は他の nanoSX と組み合わせることで、ナノレベルの高い精度を損なうことなく、1.6mm までのロングトラベルシステムを構築できます。



双方向アクティブ法について


多層セラミックアクチュエータ(SMCA)は引張力を発生することはできないため、ピエゾ駆動ナノポジショニング・アクチュエータではに、そのストローク方向によって、種類の異なる動作を利用します。押す力は、アクティブに制御されたSMCAで発生される大きな力によって決定されます。一方引張力は、パッシブに動作する湾曲ヒンジの弱いバネが戻る力を利用します。これら押す力と引張力の比は、最大で 10 にもなります。力学的性能、負荷容量、ナノポジショニング・アセンブリ全体の堅牢性は、弱い力しか発生できない方向の動作によって制限されることになります。
piezosystem jena 社の新しい洗練されたギアデザインでは、双方向アクティブ法を採用しています。これにより押す力/引張力の比を最高で 1:1 までにしています(軌道への影響無し)。ナノポジショニングステージにおけるどちらのストローク・ベクトルも、SMCAで発生する高い圧縮力によって制御しています。



ラインナップ

nanoX 200 高耐荷重ピエゾステージ nanoX 200 高耐荷重ピエゾステージ
  • 動作距離:240μm X軸
  • 最大荷重量:10kg
  • ポジショニングセンサ内蔵オプション
  • 大負荷での動的用途向き
nanoX 400 高耐荷重ピエゾステージ nanoX 400 高耐荷重ピエゾステージ
  • 動作距離:480μm X軸
  • 最大荷重量:5kg
  • ポジショニングセンサ内蔵オプション
  • 大負荷での動的用途向き
nanoX 240 SG 45° 高耐荷重ピエゾステージ nanoX 240 SG 45° 高耐荷重ピエゾステージ
  • 動作距離:240μm X軸
  • 最大荷重量:10kg
  • ビーム偏向:90°
  • シリンダーヘッド検査システムに最適
  • 大負荷での動的用途向き
nanoSX 400 高速ピエゾステージ nanoSX 400 高速ピエゾステージ
  • 動作距離:450μm X軸
  • フラットデザイン
  • 最大荷重量:10kg(f=280Hz @ 0.1kg 荷重)
  • ポジショニングセンサ内蔵オプション
  • 大負荷での動的用途向き
nanoSX 800 高速ピエゾステージ nanoSX 800 高速ピエゾステージ
  • 動作距離:900μm X軸
  • 最大荷重量:5kg(f=200Hz @ 0.1kg 荷重)
  • ポジショニングセンサ内蔵オプション
  • 大負荷での動的用途向き
Scan XY 40 ピエゾスキャンポジショナ Scan XY 40 ピエゾスキャンポジショナ
  • 動作距離:40μm XY軸
  • 中心部穴付きダイナミクススキャンステージ
  • 光学素子やレーザーのXYポジショニングに最適
nanoSXY 120 高速ピエゾポジショナ nanoSXY 120 高速ピエゾポジショナ
  • 動作距離:120μm XY軸
  • 最大荷重量:5kg(f=280Hz @ 0.1kg 荷重)
  • ポジショニングセンサ内蔵オプション
  • 大負荷での動的用途向き
nanoSXY 400 高速ピエゾポジショナ nanoSXY 400 高速ピエゾポジショナ
  • 動作距離:450μm XY軸
  • 最大荷重量:5kg(f=200Hz @ 0.1kg 荷重)
  • ポジショニングセンサ内蔵オプション
  • 大負荷での動的用途向き



(採用例)ウエハ検査システム内でのウエハの高精度ポジショニング


(採用例)赤外波長での走査型近接場光学顕微鏡


(採用例)ピエゾシステムスキャナを用いたナノライフAFM システム


顕微鏡アプリケーション向け製品



ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉

ビームシャッター 光ファイバ ライフサイエンス
(生命科学)
マテリアルサイエンス
(物質科学)
機械工学 計量学
顕微鏡検査 ナノ位置決め 光学
半導体 バルブ技術 オートフォーカス装置
(自動焦点装置)

◆日本レーザーの製品ラインナップ
piezosystem jena 社の光学機器
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動システムによる
高速・高効率・広帯域な光スイッチ
・ピエゾ素子による高速&高精度ファイバカップリング
・標準 1~9チャンネル
・モジュールのカスケード接続で100以上までチャンネル数を増設可能
・対応ファイバコア径 50~600μm
・内部光学部品無し: 紫外から赤外までカバー
>詳細はこちら
ピエゾ駆動光学マウント
種々のコンポーネントや
アプリケーションに柔軟に対応
・顕微鏡用対物レンズマウント
・アプリケーションごとに選べるチップ&チルト・ミラーマウント
・最大開口1500μmの光シャッター/スリット
・使い易いファイバポジショニングシステム
・マイクロメータスクリュードライブ
・グリッパー
>詳細はこちら
ピエゾ駆動ステージ
LDなど光学部品の精密ポジショニング及び
スキャニング用途に適した、
安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ
・X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転
・最大1500μmのロングトラベル達成
・クローズドループオプション
・真空/極低温対応可能
>詳細はこちら
NanoX 高速ポジショナ
最大10kgもの大荷重でも、
高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。
複数のポジショナを組み合わせることも可能。
・2つのスタック・アクチュエータを組み合わせる双方向アクティブ法採用
・高精度、高い耐荷重で高速の動的用途に最適
>詳細はこちら
スタックアクチュエータ
多層セラミック技術をもとにした
スタック型ピエゾアクチュエータ
・数kNもの高い耐負荷量と1nm未満の高分解能を同時に実現
・長寿命
・クローズドループ対応
・真空、極低温対応
>詳細はこちら

【パターン・ジェネレータ】 (レーザー描画装置・レーザー加工装置)

高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】
【パルスレーザー】

パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【インプリント】

UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】

レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【SECOPTA社 LIBSシステム】

SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
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レーザー専門商社の草分けとして、1968...
主として海外製品の輸入販売を行っています。取扱製品を大きく分類すると、次のような製品・技術に分類することができます。 【レーザー】 海外から、多種類の最先端レーザー製品を輸入し、あらゆる業種・用途に適応できるように多彩な製品群を用意し、お客様の目...
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