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小型UV式インプリント実験装置
・小型卓上装置
・UVインプリントの入門機

・4インチ金型まで対応
・フィルムも転写可能
・平行度調整機構(オプション)
製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861
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主な機能と仕様

ワーク 樹脂フィルムシート、ガラス、樹脂基板
最大100mm×100mmまで
スタンパ 石英 50mm×50mmまで
金属 100mm×100mm
上ヘッド UV光源 波長375nm+/-5nm(光陵固定) 高輝度UV-LED 100個
連続照射(紫外線強度2.57mW/cm2)
石英天版 融解石英
押圧機構 エアシリンダー
転写力 400N (約40kgf)
圧力調整 シリンダーのエア圧を精密レギュレーターで調整(0.04~0.4Mpa)
速度調整 上下速度は個別のスピードコントロールボリュームにて可変
下ヘッド 固定式 吸着溝無しワークテーブル
安全機能 全面扉を開くと押圧禁止インターロック完備
UV波長カットカバー使用
装置寸法 W222mm×D222×H436mm
重量 約15kg
ユーティリティー AC100V 50/60Hzとドライエア0.4Mpa
オプション 平行調整機能(分解能=1μm程度)
吸着溝付ワークテーブル(平面度2μm以下、鏡面仕上げ)


◆日本レーザーの製品ラインナップ
インプリント装置
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
小型UV式インプリント実験装置
・小型卓上装置
・UVインプリントの入門機
・4インチ金型まで対応
・フィルムも転写可能
・平行度調整機構(オプション)
>詳細はこちら
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
小型熱式インプリント実験装置
・小型卓上装置
・熱インプリントの入門機
・最大350℃高精度ホットプレート搭載
・6インチワーク対応
・強制水冷対応
・簡単操作
>詳細はこちら
大面積対応ナノインプリント装置
“UV Roller Press Scan®シリーズ”
UVローラー・プレス・スキャン®方式により
小型軽量な装置で大面積インプリントを実現
・小型・軽量・シンプルな装置構造
・ハイスループット&低コスト
・気泡の混入を抑制した精密転写
>詳細はこちら
静電式液材塗布/描画装置
“Q-jetシリーズ”
静電吸引力で液体材料を吐出。高粘度材の吐出や極微量吐出を実現
・高粘度材対応 ~10,000cps
・極微量吐出 100フェムト・リットル以下
・多様な吐出モード
・吐出状況の観察機能
・マルチ・ノズルにも対応
>詳細はこちら
> その他、用途に合わせた製品を取り揃えております。

【パルスレーザー】

パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【パターン・ジェネレータ】

R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+”
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000”
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400”
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101”
【粒度分布計測】

レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】

半導体分野 顕微鏡検査(採用例1) 顕微鏡検査(採用例2)
顕微鏡アプリケーション向け製品 ビームシャッター 計量学 オートフォーカス装置

ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】

SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
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レーザー専門商社の草分けとして、1968...
主として海外製品の輸入販売を行っています。取扱製品を大きく分類すると、次のような製品・技術に分類することができます。 【レーザー】 海外から、多種類の最先端レーザー製品を輸入し、あらゆる業種・用途に適応できるように多彩な製品群を用意し、お客様の目...
光学測定
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